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J-GLOBAL ID：200903036323924368

コーティング用組成物

Inventor： 阿部 悟
Applicant, Patent owner： 日本曹達株式会社
Agent (4)： 廣田 雅紀 ,  小澤 誠次 ,  大▲高▼ とし子 ,  ▲高▼津 一也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004240822
Publication number (International publication number)：2006022297
Application date： Aug. 20, 2004
Publication date： Jan. 26, 2006
Summary：

【課題】 撥水性及び基材との密着性に優れると共に高い硬度をもつ膜を形成させることができるコーティング用組成物を提供すること。【解決手段】 少なくとも、下記一般式(I)で示される化合物、一般式(I)で示される化合物及びセルロース誘導体を原料とするコーティング用組成物である。 M1(X1)p ...一般式(I)[式中、M1は金属原子を表し、X1は反応性基を表し、pはM1の原子価を表す。] (R)nM2(X2)m-n ...一般式(I)[式中、Rは、C1〜C10アルキル基等を表し、M2は金属原子を表し、X2は反応性基を表し、mはM2の原子価を表し、nは1又は2を表す。]【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

少なくとも、下記一般式(I)で示される化合物、一般式(II)で示される化合物及びセルロース誘導体を原料とすることを特徴とするコーティング用組成物。 M1(X1)p ...一般式(I) [式中、M1は金属原子を表し、X1は反応性基を表し、pはM1の原子価を表す。] (R)nM2(X2)m-n ...一般式(II) [式中、Rは、C1〜C10アルキル基、C1〜C10ハロアルキル基、C2〜C10アルケニル基、C3〜C8シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基を表し、M2は金属原子を表し、X2は反応性基を表し、mはM2の原子価を表し、nは1又は2を表す。]

IPC (5)：

C09D 101/00 ,  C09D 101/28 ,  C09D 183/02 ,  C09D 183/04 ,  C09D 185/00

FI (5)：

C09D101/00 ,  C09D101/28 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  C09D185/00

F-Term (6)：

4J038BA091 ,  4J038DL031 ,  4J038DM021 ,  4J038NA07 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 表面硬質透明シートとその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-264234   Applicant：グンゼ株式会社, 工業技術院長, 矢澤哲夫, 蔵岡孝治
• 防曇性被膜形成基材およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-335334   Applicant：セントラル硝子株式会社

Cited by examiner (4)

• 積層体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-114654   Applicant：積水化学工業株式会社
• 特表平5-500281
  
• コーティング用組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-149255   Applicant：東芝シリコーン株式会社, 松下電工株式会社
• 特表平5-500281