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J-GLOBAL ID:200903036397889025
X線投影露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995213789
Publication number (International publication number):1997063923
Application date: Aug. 22, 1995
Publication date: Mar. 07, 1997
Summary:
【要約】【課題】 作動中の解像度の低下を防止できるX線投影露光装置を提供すること、好ましくはスループットを低下させないで、作動中の解像度の低下を防止できるX線投影露光装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも、X線源、該X線源から発生するX線をマスク1上に照射する照明光学系、及び該マスク1からのX線9aを受けて該マスク1上に形成されたパターンをウエハ3上に投影結像する投影結像光学系2を備えたX線投影露光装置において、前記投影結像光学系2から前記ウエハ3に向かうX線9bの光路を必要に応じて変更する光路変更機構4、該光路変更機構4により光路が変更されたX線9cを受けて該X線9cの収差を測定する収差測定機構5、及び該収差を補正する収差補正機構6、7、8を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
Claim (excerpt):
少なくとも、X線源、該X線源から発生するX線をマスク上に照射する照明光学系、及び該マスクからのX線を受けて該マスク上に形成されたパターンをウエハ上に投影結像する投影結像光学系を備えたX線投影露光装置において、前記投影結像光学系から前記ウエハに向かうX線の光路を必要に応じて変更する光路変更機構、該光路変更機構により光路が変更されたX線を受けて該X線の収差を測定する収差測定機構、及び該収差を補正する収差補正機構を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
IPC (2):
FI (2):
H01L 21/30 531 A
, G21K 5/02 X
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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露光方法及び露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-318163
Applicant:株式会社日立製作所
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投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-194930
Applicant:株式会社ニコン
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投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-136886
Applicant:キヤノン株式会社
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