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J-GLOBAL ID：200903036397889025

X線投影露光装置

Inventor：
押野 哲也

About 押野 哲也


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995213789
Publication number (International publication number)：1997063923
Application date： Aug. 22, 1995
Publication date： Mar. 07, 1997
Summary：
【要約】【課題】 作動中の解像度の低下を防止できるX線投影露光装置を提供すること、好ましくはスループットを低下させないで、作動中の解像度の低下を防止できるX線投影露光装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも、X線源、該X線源から発生するX線をマスク1上に照射する照明光学系、及び該マスク1からのX線9aを受けて該マスク1上に形成されたパターンをウエハ3上に投影結像する投影結像光学系2を備えたX線投影露光装置において、前記投影結像光学系2から前記ウエハ3に向かうX線9bの光路を必要に応じて変更する光路変更機構4、該光路変更機構4により光路が変更されたX線9cを受けて該X線9cの収差を測定する収差測定機構5、及び該収差を補正する収差補正機構6、7、8を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
Claim (excerpt)：
少なくとも、X線源、該X線源から発生するX線をマスク上に照射する照明光学系、及び該マスクからのX線を受けて該マスク上に形成されたパターンをウエハ上に投影結像する投影結像光学系を備えたX線投影露光装置において、前記投影結像光学系から前記ウエハに向かうX線の光路を必要に応じて変更する光路変更機構、該光路変更機構により光路が変更されたX線を受けて該X線の収差を測定する収差測定機構、及び該収差を補正する収差補正機構を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G21K 5/02
FI (2)：
H01L 21/30 531 A ,  G21K 5/02 X
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 露光方法及び露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-318163   Applicant：株式会社日立製作所
  • 投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-194930   Applicant：株式会社ニコン
  • 投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-136886   Applicant：キヤノン株式会社

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