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J-GLOBAL ID：200903036439016086

水系におけるアニオン性高分子電解質を含む処理剤濃度のオンストリーム監視装置及び処理剤注入量の制御方法

Inventor：
伊藤 賢一

About 伊藤 賢一

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藤後 直子

About 藤後 直子

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中嶋 淳一

About 中嶋 淳一

, 
阪口 たまみ

About 阪口 たまみ


Applicant, Patent owner：
伯東株式会社

About 伯東株式会社


Agent (1)： 田中 政浩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997136696
Publication number (International publication number)：1998332595
Application date： May. 27, 1997
Publication date： Dec. 18, 1998
Summary：
【要約】【課題】 水系における金属の腐食、スケール析出ないし汚れを防止するためにアニオン性高分子電解質を含む処理剤を添加しているシステムにおいて、アニオン性高分子電解質を含む処理剤の濃度をオンストリームで監視できる装置、および該装置を用いてアニオン性高分子電解質を含む処理剤の注入量を制御する方法を提供する。【解決手段】 比色セル、試薬供給装置、攪拌装置、光源、受光部からなる装置であって、該比色セルに試料水を連続的ないし断続的に流しながら、一定時間毎に一定量の試料水を比色セルに留め、第四級アンモニウム塩とキレート剤を含む試薬を添加して、比色セルにおける光の透過光ないし散乱光の強度を測定して電気信号として取り出すことを特徴とする水系におけるアニオン性高分子電解質を含む処理剤の濃度のオンストリーム監視装置、および上記操作により得られた電気信号をアニオン性高分子電解質濃度の設定値と比較する工程を含み、その比較に基づきアニオン性高分子電解質を含む処理剤の注入量を制御する方法。
Claim (excerpt)：
水系における金属の腐食、スケール析出ないし汚れを防止するためにアニオン性高分子電解質を含む処理剤を添加しているシステムにおいて、比色セルに試料水を連続的ないし断続的に流しながら、一定時間毎に一定量の試料水を比色セル内に留める液量調整手段、比色セル内の試料水に第四級アンモニウム塩とキレート剤を含む試薬を供給する試薬供給装置、比色セルにおいて試料水と試薬供給装置から供給された試薬とを均一に混合するための攪拌装置、比色セル内の試料水に対して照射する光源、比色セルにおける試料水の透過光ないし散乱光を検知する受光部及び検知した試料水の透過光ないし散乱光の強度を電気信号に変換して試料水中の処理剤濃度を測定する測定手段を備えていることを特徴とする水系におけるアニオン性高分子電解質を含む処理剤濃度のオンストリーム監視装置。
IPC (8)：
G01N 21/78 ,  C02F 1/00 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/10 620 ,  C23F 11/173 ,  G01N 21/75 ,  G01N 31/00 ,  G01N 33/18
FI (8)：
G01N 21/78 Z ,  C02F 1/00 K ,  C02F 5/00 610 G ,  C02F 5/10 620 Z ,  C23F 11/173 ,  G01N 21/75 Z ,  G01N 31/00 V ,  G01N 33/18 C
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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