電子ビーム描画方法および電子ビーム描画装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：小川勝男 , 田中恭助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004266635
Publication number (International publication number)：2006086182
Application date： Sep. 14, 2004
Publication date： Mar. 30, 2006
Summary：

【課題】各ビームが描画するパターンの中心座標シフト補正を行う場合、μフィールド自体の形状を補正することが不可能である。そのため、中心座標は正しい位置に補正たとしてもμフィールド間の接続ずれが生じ正しいパターンを描画することができない。【解決手段】格子状に配列された複数のビームを生成する手段と描画パターンをビームのオンオフ情報に変換する手段と複数のビームを個別にON/OFFする手段と複数のビームの格子形状の補正量を求める手段と複数のビームの照射位置を独立に制御し複数ビームの格子形状を補正する手段と格子状に配列された複数のビームの照射位置を一斉に偏向する手段と一斉に偏向する際の偏向形状を補正する手段を具備し、複数ビームの格子形状および一斉偏向形状を補正しながら描画を行うことを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

複数の電子ビームを用いて描画を行う電子ビーム描画方法において、格子状に配列される前記複数の電子ビームを生成する手段と、描画する描画パターンを前記電子ビームの照射量情報に変換する手段と、前記複数の電子ビームを個別にオンオフする手段と、前記複数の電子ビームが描画する格子形状の中心位置を補正するための補正量を求める手段と、前記複数のビームの照射位置を独立に制御し、かつ前記補正量を求める手段から受けた補正量に基づいて前記複数の電子ビームの格子形状の中心位置を補正する手段と、前記格子状に配列された複数の電子ビームの照射位置を一斉に偏向する手段と一斉に偏向する際の偏向形状に傾きの補正を加える手段を具備し、前記複数の電子ビームが描く前記格子形状および前記偏向形状を補正しながら描画することを特徴とする電子ビーム描画方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , H01J 37/147 , H01J 37/305

FI (5)：

H01L21/30 541D , G03F7/20 504 , H01J37/147 C , H01J37/305 B , H01L21/30 541W

F-Term (10)：

2H097BB10 , 2H097CA16 , 2H097LA10 , 5C033GG05 , 5C034BB04 , 5F056AA33 , 5F056CB05 , 5F056CB13 , 5F056CC02 , 5F056CC09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

電子ビーム描画方法及び描画装置、並びにこれを用いた半導体製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-102789 Applicant：株式会社日立製作所, キヤノン株式会社, 株式会社アドバンテスト
電子ビーム露光方法及びそれを用いたデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-150986 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭62-092315

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Cited by examiner (4)

電子ビーム露光方法及びそれを用いたデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-150986 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭62-092315
荷電ビーム描画装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-238667 Applicant：株式会社東芝

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