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J-GLOBAL ID：200903036525523985

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 丹 史郎 ,  河辺 保雅
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996180768
Publication number (International publication number)：1997090626
Application date： Jul. 10, 1996
Publication date： Apr. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】 高い解像度、広いデフォーカスラチチュード、耐熱性を有するとともに、Deep UV硬化性に富んだポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 特定のフェノール化合物と、ホルムアルデヒド及び少なくとも1つのアルコキシ基で置換された特定のヒドロキシ芳香族アルデヒド化合物とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂と、1,2-キノンジアジド化合物とを含む。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるフェノール化合物と、ホルムアルデヒド及び下記一般式(2)で示される芳香族アルデヒド化合物とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂と、1,2-キノンジアジド化合物とを含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 〜R3 は、同一でも異なってもよく、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基もしくはアリールカルボニル基を示し、R4 〜R8 は、同一でも異なってもよく、水素原子、水酸基、ホルミル基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基もしくはニトロ基を示す。ただし、R4 〜R8 のうち少なくとも1つは水酸基であり、さらに残りの少なくとも1つはアルコキシ基である。

IPC (5)：

G03F 7/023 511 ,  C08K 5/28 ,  C08L 61/06 LNF ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/023 511 ,  C08K 5/28 ,  C08L 61/06 LNF ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-215910   Applicant：住友化学工業株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-167529   Applicant：富士写真フイルム株式会社