Pat
J-GLOBAL ID:200903036585575208
レーザ顕微鏡
Inventor:
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
井島 藤治 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996042259
Publication number (International publication number):1997236640
Application date: Feb. 29, 1996
Publication date: Sep. 09, 1997
Summary:
【要約】【課題】 大きな試料であっても破損の危険のない試料ホルダを備えたレーザ顕微鏡を実現する。【解決手段】 ホルダ20は中心部に比較的大きな径の開口22が穿たれ、この開口22にはアクリル樹脂等のレーザ光を透過する透明板23が嵌め込まれており、試料1の裏面はホルダ20と透明板23の表面とに面接触されている。このホルダ20上に試料1をセットし、排気管26、排気孔25を介して溝24内を排気することにより、試料1はホルダ20に真空チャックされる。この後、マニピュレータ5を操作し、電極6を試料1の任意の部分に接触させ、レーザ光を透明板23を透過させて試料1の裏面に照射し、OBIC像の観察を行う。この際、試料1の観察箇所には、電極6が押し付けられるが、試料1の裏面は透明板23とホルダ20の表面に密着されていることから、試料1が割れたりする事故は防止される。
Claim (excerpt):
試料の表面に設けられ、試料の特定箇所への電圧の印加とOBIC検出のための電極を操作するマニピュレータと、試料の裏面からレーザ光を照射する光学系と、試料を保持するホルダとを備えており、ホルダの少なくともレーザ光を通す部分を透明な板で形成したレーザ顕微鏡。
IPC (3):
G01R 31/302
, G02B 21/00
, H01L 21/66
FI (3):
G01R 31/28 L
, G02B 21/00
, H01L 21/66 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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半導体ウエハの試験解析装置および解析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-151968
Applicant:三菱電機株式会社
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特開昭63-245395
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特開昭63-245395
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特開昭5-296739
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特開昭5-296739
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半導体ウエハー等のテスト装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-065687
Applicant:エリッヒライティンガー
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ウェハステージ及びウェハプロービング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-095046
Applicant:日立電線株式会社
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特開昭63-245395
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特開昭5-296739
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特開昭63-245395
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特開昭5-296739
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