基板端縁部の洗浄装置及び洗浄方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小山有 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995325576
Publication number (International publication number)：1997167750
Application date： Dec. 14, 1995
Publication date： Jun. 24, 1997
Summary：

【要約】【課題】基板の端縁部に沿って一定幅でもって塗布液を除去することが困難である。【解決手段】吸着回転装置10よりも上流側の搬送経路を跨ぐように門型の支持フレーム20を設け、この支持フレーム20に下方を通過する基板Wとの接点を検知するセンサー21a,21b,21cを取り付けている。そして、基板Wを搬送治具4によって洗浄ステーション3まで搬送する間に、センサー21a,21b,21cにて少なくとも円板状基板外周の3つの点を検出し、検出した3つの点を通る外接円の中心点を求め、この中心点を円板状基板Wの中心点と見做し、この円板状基板Wの中心点と吸着回転装置のチャック13の中心点とが一致する位置まで吸着回転装置10を移動待機せしめ、この位置で搬送装置4からチャック13上に基板Wを受け渡し、この後は吸着回転装置10を所定位置まで移動し、端縁洗浄治具16によって基板W端縁の塗布液を一定幅で除去する。

Claim (excerpt)：

表面に塗布液が塗布された基板を洗浄ステーションまで搬送する搬送治具と、洗浄ステーションの所定位置に固設される端縁洗浄治具と、洗浄ステーションに配置されるとともに任意の方向に水平移動可能とされた吸着回転装置と、基板を保持している吸着回転装置のチャック中心点と基板の中心点との偏心量を検出するセンサーと、この偏心量に基づいて前記吸着回転装置の移動方向と移動量を設定する制御装置とを備えたことを特徴とする基板端縁部の洗浄装置。

IPC (6)：

H01L 21/304 341 , B08B 3/02 , G03F 7/16 502 , G03F 7/26 , H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (7)：

H01L 21/304 341 M , B08B 3/02 B , G03F 7/16 502 , G03F 7/26 , H01L 21/68 F , H01L 21/68 A , H01L 21/30 577

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-154146
半導体ウェーハの洗浄装置及び洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-283093 Applicant：東京応化工業株式会社
基板搬送装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-098445 Applicant：株式会社ニコン

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