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J-GLOBAL ID：200903036917240736

硬化性組成物、硬化膜、反射防止膜、及び硬化膜の製造方法

Inventor：
飯沼 良介

About 飯沼 良介

, 
川合 高弘

About 川合 高弘

, 
八代 隆郎

About 八代 隆郎

, 
高瀬 英明

About 高瀬 英明


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (1)： 渡辺 喜平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007054007
Publication number (International publication number)：2008212832
Application date： Mar. 05, 2007
Publication date： Sep. 18, 2008
Summary：
【課題】より屈折率の低い硬化膜が得られる光硬化性組成物、硬化膜の製造方法を提供する。【解決手段】(A)シリカを主成分とする粒子、(B)分子内に1個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物、(C)水溶性であり、かつ重合性不飽和基を有しない、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が200〜20,000の化合物、及び(D)光重合開始剤を含有する光硬化性組成物を塗布する工程、光照射する工程、及び水に浸漬する工程を含む、硬化膜の製造方法。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
下記成分(A)〜(D): (A)シリカを主成分とする粒子 (B)分子内に1個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物 (C)水溶性であり、かつ重合性不飽和基を有しない、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が200〜20,000の化合物 (D)光重合開始剤 を含有する光硬化性組成物を塗布する工程、光照射する工程、及び水に浸漬する工程を含む、硬化膜の製造方法。
IPC (4)：
B05D 7/24 ,  G02F 1/133 ,  C08F 2/44 ,  C08F 220/20
FI (4)：
B05D7/24 301T ,  G02F1/1335 ,  C08F2/44 Z ,  C08F220/20
F-Term (46)：
2H091FA37 ,  2H091FB04 ,  2H091FB13 ,  2H091FC12 ,  2H091FD06 ,  2H091GA16 ,  2H091LA12 ,  2H091LA30 ,  2H191FA40X ,  2H191FA40Y ,  2H191FA40Z ,  2H191FB04 ,  2H191FB23 ,  2H191FC13 ,  2H191FD07 ,  2H191GA22 ,  2H191LA13 ,  2H191LA40 ,  4D075BB18Z ,  4D075BB41Z ,  4D075CB02 ,  4D075DC24 ,  4D075EB22 ,  4D075EC03 ,  4D075EC07 ,  4D075EC24 ,  4D075EC37 ,  4D075EC52 ,  4J011AA05 ,  4J011PA13 ,  4J011PA90 ,  4J011PB22 ,  4J011PB40 ,  4J011PC02 ,  4J011QA03 ,  4J011RA08 ,  4J011SA01 ,  4J011SA21 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA10 ,  4J100AL63P ,  4J100CA01 ,  4J100DA01 ,  4J100DA62 ,  4J100JA32
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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