Pat
J-GLOBAL ID：200903033066926380

低屈折率コーティング剤および反射防止フィルム

Inventor：
大畑 浩一

About 大畑 浩一

, 
吉原 俊昭

About 吉原 俊昭


Applicant, Patent owner：
凸版印刷株式会社

About 凸版印刷株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001231141
Publication number (International publication number)：2002317152
Application date： Jul. 31, 2001
Publication date： Oct. 31, 2002
Summary：
【要約】【課題】本発明は、低屈折率コーテイング剤、および耐擦過性を有し、また指紋などの汚れの付着を防止した低屈折率層を有する反射防止フィルムを提供する。【解決手段】有機珪素化合物、又はその重合体のいずれかからなる組成物であるSi(OR)4とR’mSi(OR)4-mからなる共重合体、または、さらにR”nSi(OR)4-nを含んでなる共重合体マトリックス[但し、Rはアルキル基、R’はフッ素含有置換基、R”はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも1つを有する置換基、m、nは置換数である]中に、平均粒径0.5〜200nm、屈折率1.44〜1.34の中空シリカ微粒子を添加したことを特徴とする低屈折率コーティング剤及び低屈折率層を有する反射防止フィルムである。
Claim (excerpt)：
一般式(1)で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Aと、一般式(2)で示される有機珪素化合物、もしくはこの有機珪素化合物の重合体のいずれかからなる組成物Bとの共重合体からなるマトリックス中に、平均粒径0.5〜200nm、屈折率1.44〜1.34の中空シリカ微粒子を添加したことを特徴とする低屈折率コーティング剤。Si(OR)4 ・・・・・(1)(但し、Rはアルキル基である) R’mSi(OR)4-m ・・・・・(2)(但し、R’はフッ素含有置換基、Rはアルキル基であり、mは置換数である)
IPC (5)：
C09D183/02 ,  C09D 5/00 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  H04N 5/72
FI (5)：
C09D183/02 ,  C09D 5/00 Z ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  H04N 5/72 A
F-Term (12)：
4J038DL021 ,  4J038DL032 ,  4J038DL052 ,  4J038DL082 ,  4J038DL102 ,  4J038HA446 ,  4J038NA19 ,  4J038PB08 ,  4J038PB09 ,  4J038PC08 ,  5C058BA30 ,  5C058DA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM