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J-GLOBAL ID：200903037000772492

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  近藤 俊一
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998065598
Publication number (International publication number)：1999258801
Application date： Mar. 16, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 220nm以下の露光光源の使用時に、良好な感度、解像度を与え、更に十分な耐ドライエッチング性を有し、且つ十分な経時保存安定性を有するネガ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、多環型の脂環式基とヒドロキシ基を有する樹脂、環状イミド化合物を含有するネガ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)多環型の脂環式基とヒドロキシ基を有する樹脂、及び(C)環状イミド化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/027 ,  C08K 5/3412 ,  C08L 35/00 ,  C08L101/02

FI (6)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/038 504 ,  C08K 5/3412 ,  C08L 35/00 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R