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J-GLOBAL ID：200903075765914375

感光性樹脂組成物およびパターン形成方法

Inventor：
中野 嘉一郎

About 中野 嘉一郎

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岩佐 繁之

About 岩佐 繁之

, 
長谷川 悦雄

About 長谷川 悦雄


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993334643
Publication number (International publication number)：1995199467
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Aug. 04, 1995
Summary：
【要約】 (修正有)【構成】 下記(I)式に示す高分子化合物と、放射線に感応すると酸を発生する化合物、およびそれらを溶解可能な溶剤からなる感光性樹脂組成物。および当該感光性樹脂組成物の薄膜を基板上に形成し、波長が220nm以下の光を露光光とすることで微細パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。[上式において、nは5ないし1000の正の整数、R1,R2およびR3は夫々独立して水素原子またはメチル基、R4はトリシクロデカニル基等、R5はテトラヒドロピラニル基等、x+y+z=1、xは0.1〜0.9、yは0.1〜0.7、zは0.01〜0.7を表す。]【効果】 波長が220nm以下の遠紫外光に対し高透明性を有し、高感度で形状の良い微細パターンを形成することから、遠紫外線、例えばArFエキシマレーザ(193.3nm)露光用化学増幅型レジストとして有用である。
Claim (excerpt)：
(i)酸と反応することで極性を変換する基を含有する高分子化合物と、(ii) 放射線に感応すると酸を発生する化合物、および(iii)それらを溶解可能な溶剤、を含有し、前記(i)の高分子化合物が下記一般式(I)の三元共重合体であることを特徴とする感光性樹脂組成物。【化1】[上式において、nは5ないし1000の正の整数、R1 ,R2 およびR3 は夫々独立して水素原子またはメチル基を表わし、R4 はトリシクロデカニル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンテニルオキシエチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基、ノルボルナンエポキシ基、ノルボルナンエポキシメチル基、あるいはアダマンチル基、R5 はテトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、メチル基、エチル基、プロピル基、tert-ブチル基、あるいは3-オキソシクロヘキシル基、x+y+z=1、xは0.1ないし0.9、yは0.1ないし0.7、zは0.01ないし0.7を表す。]
IPC (6)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027
FI (2)：
H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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