水素化処理触媒の硫化方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：日比紀彦 , 岸本瑛之助 , 渡邊彰 , 清末康子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005260481
Publication number (International publication number)：2006075830
Application date： Sep. 08, 2005
Publication date： Mar. 23, 2006
Summary：

【課題】水素化処理触媒、特に耐硫化性の水素化処理触媒酸化物の硫化方法、前記硫化方法によって硫化された触媒、炭化水素供給原料の水素化精製および/または水素化転化/水素化分解のための前記硫化方法によって得られた触媒の使用を提供する。【解決手段】本発明は、硫化水素(H2S)、水素(H2)を含むガス雰囲気下での硫化工程を含む水素化処理触媒の硫化方法であって、H2S/H2モル比が4を超え、かつH2Sの分圧が少なくとも1kPaであることを特徴とする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

硫化水素(H2S)、水素(H2)を含むガス雰囲気下での硫化工程を含む水素化処理触媒の硫化方法であって、H2S/H2モル比が4を超え、かつH2Sの分圧が少なくとも1kPaであることを特徴とする方法。

IPC (7)：

B01J 37/20 , B01J 27/19 , C10G 45/04 , C10G 45/34 , C10G 45/46 , C10G 45/60 , C10G 47/02

FI (7)：

B01J37/20 , B01J27/19 M , C10G45/04 B , C10G45/34 , C10G45/46 , C10G45/60 , C10G47/02

F-Term (26)：

4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA01B , 4G169BB04B , 4G169BB09C , 4G169BB14B , 4G169BC59B , 4G169BC68B , 4G169BD01C , 4G169CC02 , 4G169CC04 , 4G169CC05 , 4G169DA06 , 4G169DA07 , 4G169DA08 , 4G169EC03Y , 4G169FA02 , 4G169FB14 , 4G169FB50 , 4G169FB77 , 4G169FC04 , 4G169FC06 , 4G169FC07 , 4G169FC08 , 4H029CA00 , 4H029DA00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (15)

仏国特許出願公開第2778347号明細書
米国特許第6316382号明細書
米国特許第5688736号明細書

Show all

Cited by examiner (8)

硫黄化合物及びオレフィンを含む留分の水素処理に使用可能な部分的にコーキングされた触媒
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-020802 Applicant：アンスティテュフランセデュペトロール
特開昭56-076247
水添処理触媒の交換バッチの予備硫化
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-545488 Applicant：シェブロンユー.エス.エー.インコーポレイテッド

Show all

Return to Previous Page