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J-GLOBAL ID：200903037167654238

光ファイバー加工用位相マスク及びその製造方法

Inventor：
瀬川 敏一

About 瀬川 敏一

, 
栗原 正彰

About 栗原 正彰


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998258241
Publication number (International publication number)：2000089014
Application date： Sep. 11, 1998
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：
【要約】【課題】 マスクに欠陥がある場合にも欠陥のない回折格子を光ファイバー中に形成できる光ファイバー加工用位相マスクとその製造方法。【解決手段】 透明基板の1面に2次元的にアレー状に配置された微小なセルの集合体からなる計算機ホログラム1からなり、セルは透過光に対して各々独自の位相を与える光路長を有しており、かつ、垂直に入射する光束を計算機ホログラム1から所定距離L離れた面6上で1次元方向に一定ピッチで0と1を繰り返す1の繰返領域へのみ回折し、その繰返領域以外の領域には実質的には回折しないような位相分布を有しており、計算機ホログラム1を透過して回折された光をその面6近傍あるいはその面と共役な面近傍に配置された光ファイバー22に照射してその光ファイバー22中に回折格子を作製する。
Claim (excerpt)：
透明基板の1面に2次元的にアレー状に配置された微小なセルの集合体からなる計算機ホログラムからなり、前記セルは透過光に対して各々独自の位相を与える光路長を有しており、かつ、垂直に入射する光束を前記計算機ホログラムから所定距離離れた面上で1次元方向に一定ピッチで0と1を繰り返す1の繰返領域へのみ回折し、その繰返領域以外の領域には実質的には回折しないような位相分布を有しており、前記計算機ホログラムを透過して回折された光を前記面近傍あるいはその面と共役な面近傍に配置された光ファイバーに照射してその光ファイバー中に回折格子を作製することを特徴とする光ファイバー加工用位相マスク。
IPC (3)：
G02B 5/18 ,  G02B 6/10 ,  G03F 1/08
FI (3)：
G02B 5/18 ,  G02B 6/10 C ,  G03F 1/08 A
F-Term (16)：
2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA59 ,  2H049AA62 ,  2H049AA66 ,  2H049CA05 ,  2H049CA08 ,  2H049CA15 ,  2H049CA23 ,  2H049CA28 ,  2H050AC82 ,  2H050AC84 ,  2H050AD00 ,  2H095BB03 ,  2H095BB10 ,  2H095BC28
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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