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J-GLOBAL ID：200903037317711537
真空または低圧環境下で気体の操作および観察を可能にする装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
服部 雅紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006129338
Publication number (International publication number)：2006318903
Application date： May. 08, 2006
Publication date： Nov. 24, 2006
Summary：
【課題】電子顕微鏡の本来の設計を変えずに、気体観察の環境を形成する真空または低圧環境下で気体の操作及び観察を可能にする装置を提供する。【解決手段】一側に扁平部を有するケースを備える。前記ケースは、内部を分割して気体室を形成する少なくとも一枚の隔離板を有し、気体室は外部に少なくとも一つの緩衝室を有し、気体室の頂面および底面の隔離板はそれぞれ内孔を別々に有し、ケースは頂面および底面に外孔を別々に有し、外孔と内孔は同軸上に位置して扁平部に位置付けられ、ケースは緩衝室と繋がる抽気孔と気体室と繋がる送気孔を有する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
一側に扁平部を有するケースを備え、
前記ケースは、内部を分割して気体室を形成する少なくとも一枚の隔離板を有し、気体室は外部に少なくとも一つの緩衝室を有し、気体室の頂面および底面の隔離板はそれぞれ内孔を別々に有し、ケースは頂面および底面に外孔を別々に有し、外孔と内孔は同軸上に位置して扁平部に位置付けられ、ケースは緩衝室と繋がる抽気孔と気体室と繋がる送気孔を有することを特徴とする真空または低圧環境下で気体の操作及び観察を可能にする装置。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (3)：
5C033KK09
, 5C033UU03
, 5C033UU10
Cited by examiner (5)
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Article cited by the Patent：
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