Pat
J-GLOBAL ID:200903037376989883
反射防止膜およびその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000317590
Publication number (International publication number):2002006108
Application date: Oct. 18, 2000
Publication date: Jan. 09, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 透明基材上に微粒子を不規則な塊で凝集させることなく、かつ粒子が存在しない領域を視認性が損なわれない程度の大きさで生じさせることなく形成された微粒子層を有する反射防止膜を提供する。【解決手段】 目的を透明基材4と、その表面に配され、少なくとも単層の微粒子を有する微粒子層3とを有し、上記透明基材4表面と上記微粒子とが少なくとも静電的相互作用により付着し、さらに上記微粒子層3のバルクの屈折率が上記透明基材4の屈折率より低いことを特徴とする反射防止膜を提供する。
Claim (excerpt):
透明基材と、前記透明基材表面に配され、少なくとも単層の微粒子を有する微粒子層とを有し、前記透明基材表面と前記微粒子とが少なくとも静電的相互作用により付着し、さらに前記微粒子層のバルクの屈折率が前記透明基材の屈折率より低いことを特徴とする反射防止膜。
IPC (3):
G02B 1/11
, B32B 7/02 103
, G02B 5/02
FI (3):
B32B 7/02 103
, G02B 5/02 B
, G02B 1/10 A
F-Term (50):
2H042BA02
, 2H042BA03
, 2H042BA12
, 2H042BA20
, 2K009AA12
, 2K009BB14
, 2K009BB24
, 2K009BB25
, 2K009BB28
, 2K009CC03
, 2K009CC06
, 2K009CC09
, 2K009CC23
, 2K009CC24
, 2K009DD02
, 2K009DD09
, 2K009DD12
, 2K009EE03
, 4F100AA20B
, 4F100AA20E
, 4F100AK01B
, 4F100AK01C
, 4F100AK01D
, 4F100AK01E
, 4F100AT00A
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100CB05G
, 4F100CC01
, 4F100DE04B
, 4F100DE04E
, 4F100EC03
, 4F100EC04
, 4F100EH46
, 4F100EJ05C
, 4F100EJ05D
, 4F100GB07
, 4F100GB32
, 4F100GB41
, 4F100JG03C
, 4F100JG03D
, 4F100JL02
, 4F100JM02C
, 4F100JM02D
, 4F100JN01A
, 4F100JN06
, 4F100JN18B
, 4F100JN18E
, 4F100YY00B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
反射防止膜の製造方法および表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-030620
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-353480
Applicant:大日本印刷株式会社
-
膜厚の制御された無機超薄膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-353446
Applicant:科学技術振興事業団, 三井化学株式会社
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