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J-GLOBAL ID：200903037385221521

粒子分析装置とその粒子分画方法

Inventor：
内藤 貴道

About 内藤 貴道


Applicant, Patent owner：
シスメックス株式会社

About シスメックス株式会社


Agent (1)： 野河 信太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001194838
Publication number (International publication number)：2002107287
Application date： Jun. 27, 2001
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：
【要約】【課題】 正規分布を示さない粒子群をスキャッタグラム上で精度よく分画すること。【解決手段】 複数の粒子を含む試料から各粒子ごとに粒子の特徴を表す少なくとも2種類のパラメータを検出する検出部と、検出されたパラメータを処理する処理部と、処理部による処理結果を出力する出力部を備え、処理部は検出されたパラメータに基づいて粒子のスキャッタグラムを作成する分布図作成部と、作成されたスキャッタグラム中に予め所定の粒子分布領域を設定する領域設定部と、設定された粒子分布領域の粒子分布状態に適合する分画線を算出し、算出した分画線によってスキャッタグラム上の粒子を分画する分画部を備える。
Claim (excerpt)：
複数の粒子を含む試料から各粒子ごとに粒子の特徴を表す少なくとも2種類のパラメータを検出する検出部と、前記検出部で検出されたパラメータを処理する処理部と、前記処理部による処理結果を出力する出力部を備えた粒子分析装置であって、前記処理部は検出されたパラメータに基づいて粒子のスキャッタグラムを作成する分布図作成部と、作成されたスキャッタグラム中に予め所定の粒子分布領域を設定する領域設定部と、設定された粒子分布領域の粒子分布状態に対応する分画線を算出し、算出した分画線によってスキャッタグラム上の粒子を分画する分画部を備えた粒子分析装置。
IPC (3)：
G01N 15/14 ,  G01N 33/48 ,  G01N 33/49
FI (4)：
G01N 15/14 K ,  G01N 15/14 C ,  G01N 33/48 M ,  G01N 33/49 E
F-Term (19)：
2G045BB39 ,  2G045CA02 ,  2G045CA11 ,  2G045CA25 ,  2G045CB03 ,  2G045FA13 ,  2G045FA14 ,  2G045FA34 ,  2G045FA37 ,  2G045FB12 ,  2G045GB02 ,  2G045GB03 ,  2G045GB10 ,  2G045HA09 ,  2G045HA20 ,  2G045JA01 ,  2G045JA03 ,  2G045JA04 ,  2G045JA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 分布データ計測装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-024231   Applicant：東亜医用電子株式会社
  • 特開昭61-071337
  • 粒子計数方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-339707   Applicant：東亜医用電子株式会社
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