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J-GLOBAL ID:200903037390334903

金属膜の転写方法及び電子部品の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西澤 均
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995219617
Publication number (International publication number):1997046024
Application date: Aug. 03, 1995
Publication date: Feb. 14, 1997
Summary:
【要約】【目的】 電極用などの金属膜を、電子部品を構成する素子などの転写対象物に確実に転写することが可能な金属膜の転写方法及びそれを用いた電子部品の製造方法を提供する。【構成】 表面を酸化することにより所定の離型性を付与した下地金属2の表面に、転写対象物8に転写される転写用金属膜6を形成した後、転写用金属膜6を下地金属2の表面から転写対象物8に、直接に又は転写媒体を用いて間接に転写させる。また、下地金属2の表面の酸化の程度を変えることにより、下地金属2と転写用金属膜6との結合力を制御する。
Claim (excerpt):
金属膜を転写対象物に転写する方法において、表面を酸化することにより所定の離型性を付与した下地金属の表面に、転写対象物に転写される金属膜(転写用金属膜)を形成した後、前記転写用金属膜を下地金属の表面から転写対象物に、直接に又は転写媒体を用いて間接に転写させることを特徴とする金属膜の転写方法。
IPC (3):
H05K 3/20 ,  H01C 17/06 ,  H01G 4/12 364
FI (3):
H05K 3/20 A ,  H01C 17/06 T ,  H01G 4/12 364
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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