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J-GLOBAL ID：200903037435339677

カチオン変性精製グアーガム及び該物質を含む化粧料組成物

Inventor：
森 芳彦

About 森 芳彦

, 
武田 博光

About 武田 博光

, 
鈴木 明夫

About 鈴木 明夫


Applicant, Patent owner：
東邦化学工業株式会社

About 東邦化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004365130
Publication number (International publication number)：2006169410
Application date： Dec. 16, 2004
Publication date： Jun. 29, 2006
Summary：
【課題】 毛髪処理用組成物に配合した場合には、優れたコンディショニング効果、特に使用時のすべり性と、乾燥後にはしっとりした良好な感触と柔軟性を与え、ボディ用洗浄剤などの皮膚化粧料組成物に配合した場合には、優れた使用感が得られるカチオン変性グアーガムを提供する。【解決手段】 粗製グアーガムを精製することにより得られる、マンノースとガラクトースの組成比が2対1であるガラクトマンナンの含有量が90質量%以上でありかつ、1質量%水溶液の濁度が15%以下である精製グアーガムの水酸基の一部を、特定の第4級窒素含有基で置換したものであって、該第4級窒素含有基由来のカチオン電荷量が0.1〜3.0meq/gであり、さらに第4級窒素含有基を導入したあとのカチオン変性精製グアーガムの1%水溶液の濁度が15%以下あるカチオン変性精製グアーガムと、該カチオン変性精製グアーガムを含有する化粧料組成物。
Claim (excerpt)：
粗製グアーガムを精製することにより得られる、マンノースを構成単位とする主鎖にガラクトース単位が側鎖として構成された、マンノースとガラクトースの組成比が2対1であるガラクトマンナンの含有量が90質量%以上でありかつ、1質量%水溶液の濁度が15%以下である精製グアーガムの水酸基の一部を、下記化学式(1)で表される第4級窒素含有基で置換したものであって、該第4級窒素含有基由来のカチオン電荷量が0.1〜3.0meq/gであり、さらに第4級窒素含有基を導入したあとのカチオン変性精製グアーガムの1%水溶液の濁度が15%以下あるカチオン変性精製グアーガム。
IPC (6)：
C08B 37/00 ,  A61K 8/19 ,  A61K 8/30 ,  A61K 8/72 ,  A61K 8/00 ,  A61Q 5/00
FI (6)：
C08B37/00 K ,  A61K7/00 B ,  A61K7/00 C ,  A61K7/00 J ,  A61K7/00 W ,  A61K7/06
F-Term (80)：
4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB011 ,  4C083AB032 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB332 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC071 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC231 ,  4C083AC232 ,  4C083AC241 ,  4C083AC302 ,  4C083AC312 ,  4C083AC342 ,  4C083AC352 ,  4C083AC372 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC542 ,  4C083AC582 ,  4C083AC641 ,  4C083AC642 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC902 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD212 ,  4C083AD242 ,  4C083AD262 ,  4C083AD351 ,  4C083AD352 ,  4C083AD442 ,  4C083AD452 ,  4C083AD532 ,  4C083AD662 ,  4C083BB34 ,  4C083BB35 ,  4C083BB36 ,  4C083CC04 ,  4C083CC12 ,  4C083CC23 ,  4C083CC25 ,  4C083CC38 ,  4C083CC39 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE21 ,  4C083EE28 ,  4C090AA02 ,  4C090AA08 ,  4C090BA61 ,  4C090BA92 ,  4C090BB03 ,  4C090BB13 ,  4C090BB14 ,  4C090BB62 ,  4C090BB92 ,  4C090BD32 ,  4C090BD34 ,  4C090DA26
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
  • 特公昭47-20635号公報
  • 特開昭56-95994号公報
  • 特開平4-266812号公報
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Cited by examiner (4)
  • 高純度グアーミールの製造方法
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願平11-501226   Applicant：メイハルアーゲー
  • 化粧料用組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-176394   Applicant：東邦化学工業株式会社
  • カチオン化グアガムの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-338719   Applicant：花王株式会社
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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