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J-GLOBAL ID:200903037737191881
露光装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松田 正道
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997058738
Publication number (International publication number):1998161295
Application date: Mar. 13, 1997
Publication date: Jun. 19, 1998
Summary:
【要約】【課題】露光面上の投影パターンのピッチが光源の波長以下に出来ないと言う課題。【解決手段】光源1を出射するレーザー光2(波長λ)が、ミラー3a,3bを反射し、ビームエクスパンダー光学系4に導かれ、更にフォーカシングレンズ4aにより集光し、フォーカシングレンズ4aの焦平面に位置するピンホール4cをすり抜け、コリメートレンズ4bによってビーム径の拡大した平行光束5に変換され、この平行光束5が屈折率nの透明材質で構成された平行平板の出射面側に凹部と凸部が繰り返し形成された位相シフター6に垂直入射し、透過し、その結果±1次の回折光が発生し、スペーサー7を介して位相シフター6に対面する感光膜上で±1次の回折光が干渉しあい、微細な干渉縞を形成して感光膜を露光する構成。
Claim (excerpt):
レーザー光源と、前記レーザー光源から出射する波長λのレーザー光を拡大し平行光束の平面波とするための拡大手段と、屈折率nの透明材質により形成された板状部材と、前記板状部材に近接して置かれた、表面に感光膜が形成された露光基板とを備え、前記板状部材の露光基板側に面した表面には、凹部及び凸部が繰り返し形成されており、前記拡大手段により拡大された平面波が前記凹部又は凸部を透過することで±1次の回折光が発生するものであり、前記感光膜は、前記+1次の回折光と前記-1次の回折光とが互いに交差する位置に置かれており、前記回折光間の干渉により発生する干渉縞が前記感光膜を感光することを特徴とする露光装置。
IPC (4):
G03F 1/08
, G02B 5/18
, G03F 7/20
, H01L 21/027
FI (5):
G03F 1/08 A
, G02B 5/18
, G03F 7/20
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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露光方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-287274
Applicant:株式会社日立製作所
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特開昭51-120615
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特開昭62-092438
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