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J-GLOBAL ID：200903037857273962

計測システム及び計測方法

Inventor： 渡邉 恵理子 ,  小舘 香椎子 ,  水野 潤
Applicant, Patent owner： 小舘 香椎子
Agent (7)： 中尾 俊輔 ,  伊藤 高英 ,  畑中 芳実 ,  大倉 奈緒子 ,  玉利 房枝 ,  鈴木 健之 ,  磯田 志郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008121300
Publication number (International publication number)：2008304456
Application date： May. 07, 2008
Publication date： Dec. 18, 2008
Summary：

【課題】正確かつ高速に位相差および屈折率差を測定することができるシステムを提供する。【解決手段】光を照射する光源1と、光源により照射された光を第1の光路と、第2の光路に分割する分割手段3と、第2の光路の光路長を変更する光路長変更手段7と、第2の光路内に配置された一対のレンズ8,9と、一対のレンズの間に試料を配置し移動させる試料移動手段10と、第1の光路からの光21と第2の光路からの光22との干渉光の強度を検出する光検出手段11と、光検出手段において検出された干渉光の強度に基づき光路長変更手段における光路長の変更量をフィードバック制御する制御手段12と、制御手段により制御された光路長の変更量を検出する変更量検出手段と、を備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

光を照射する光源と、 前記光源により照射された光を第1の光路と、第2の光路に分割する分割手段と、 前記第2の光路の光路長を変更する光路長変更手段と、

IPC (1)：

G01N 21/45

FI (1)：

G01N21/45 A

F-Term (17)：

2G059AA02 ,  2G059BB08 ,  2G059BB14 ,  2G059DD13 ,  2G059EE01 ,  2G059EE09 ,  2G059EE17 ,  2G059EE18 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK02 ,  2G059KK04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 位相差顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-058227   Applicant：オリンパス光学工業株式会社

Cited by examiner (2)

• 屈折率測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-337189   Applicant：株式会社生体光情報研究所
• 位相差測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-168937   Applicant：日本電気株式会社