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J-GLOBAL ID:200903037883217817

有機EL素子及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 秀策
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998197821
Publication number (International publication number):1999111465
Application date: Jul. 13, 1998
Publication date: Apr. 23, 1999
Summary:
【要約】【課題】 有機EL素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】 有機EL素子の製造方法は、透明基板上に複数個の第1電極を一定の間隙に形成する第1工程と、前記第1電極上に、下部面が上部面よりも広い台形構造を有するとともに電気絶縁物質からなる多数の隔壁を形成する第2工程と、前記隔壁上部を含む全面に有機積層膜、第2電極、第1保護膜を順次に形成する第3工程と、隣接するピクセルが電気的に絶縁されるように、隔壁上部側の第2電極を完全に除去し、有機積層膜の一部を除去する第4工程と、そして前記除去された表面上に第2保護層を形成する第5工程と、を備える。
Claim (excerpt):
第1電極、有機積層膜、第2電極からなる多数のピクセルを含む発光素子において、該第1電極上に突出配置されるとともに、下部面が上部面よりも広い台形構造を有する電気絶縁性の隔壁を備え、該隔壁上部側の第2電極と有機積層膜とは断ち切られ、該各ピクセルは電気的に絶縁されることを特徴とする有機EL素子。
IPC (3):
H05B 33/22 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (3):
H05B 33/22 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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