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J-GLOBAL ID：200903037983867061

ハーフトーン型位相シフトマスク

Inventor：
須田 秀喜

About 須田 秀喜


Applicant, Patent owner：
HOYA株式会社

About HOYA株式会社


Agent (1)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002357074
Publication number (International publication number)：2003241363
Application date： Dec. 09, 2002
Publication date： Aug. 27, 2003
Summary：
【要約】【課題】 ハーフトーン型位相シフトマスクの微小な欠陥をも確実に検出できるようにする。【解決手段】 ハーフトーン型位相シフトマスクは、透明基板上に半透光膜パターンとこの半透光膜パターンの上に形成された遮光膜パターンとを有して成る。各パターンは、波長248[nm]の露光光に対しては、共に20%以下の反射率を示す一方、波長488[nm]の欠陥検査光に対しては、10%以上の相違を示すように構成されている。
Claim (excerpt)：
透明基板上に、半透光膜パターンと、この半透光膜パターンの上に形成された遮光膜パターンと、を有するハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、欠陥検査光に対する前記各パターンの反射率が、当該欠陥検査光をこのマスクに照射した際の散乱光に基づいて当該欠陥を検出できる程度の相違を示すように構成されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 1/08 K ,  G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/30 502 P
F-Term (5)：
2H095BB03 ,  2H095BC11 ,  2H095BD02 ,  2H095BD12 ,  2H095BD13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (2)

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