高容量フラッシュ蒸気発生システム

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：山本秀策 , 安村高明 , 森下夏樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002565640
Publication number (International publication number)：2004524086
Application date： Feb. 15, 2002
Publication date： Aug. 12, 2004
Summary：

フラッシュ気化器(34)は、部屋または建物のような大きなエンクロージャー(10)を迅速に滅菌するために、気化した過酸化水素または他の抗菌化合物の、一定の流れを提供する。この気化器は、加熱されたブロックを備え、これは、内側ボアを規定する。このボアによって作製される流路は、過酸化水素が通過するにつれて断面積を増加させ得、液体から気体への変換の間の容量の増加に適合する。この蒸気は、管(23)内の乾燥空気に注入され、この管が、この蒸気を大きなエンクロージャーに循環させる。

Claim (excerpt)：

規定された領域(10、144)を除染するための蒸気除染システムであって、該システムは、少なくとも第一の管(23、94、102、140、142)を備え、該管に沿って、キャリアガスが、該規定された領域に通され、該システムは、以下: フラッシュ気化器(34)であって、該フラッシュ気化器は、抗菌化合物を含有する液体を蒸気に気化させるためのものであり、該フラッシュ気化器の出口(54)は、混合ゾーン(38、92、112)において、該管を通過するキャリアガスに吸収させるために、該蒸気を該管内に供給するために、該管に接続されている、フラッシュ気化器;および該液体を源(32、120)から該フラッシュ気化器へと導入するための手段(30、122)、によって特徴付けられる、システム。

IPC (1)：

A61L2/20

FI (2)：

A61L2/20 A , A61L2/20 G

F-Term (12)：

4C058AA23 , 4C058AA25 , 4C058BB05 , 4C058BB07 , 4C058DD01 , 4C058DD04 , 4C058DD06 , 4C058DD07 , 4C058EE01 , 4C058JJ16 , 4C058JJ28 , 4C058JJ29

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

連続操作閉ループ除染システムおよび方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-501880 Applicant：アメリカンステリライザーカンパニー
特開平1-256964
ガス滅菌処理方法及びガス滅菌処理システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-290751 Applicant：大陽東洋酸素株式会社

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