光導波路及びその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：絹谷信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996154155
Publication number (International publication number)：1998003014
Application date： Jun. 14, 1996
Publication date： Jan. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】屈折率変化の大きい光導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】基板1上に形成され、下側クラッド層2と上側クラッド層4とで覆われるコア用ガラス膜を、Ge添加濃度の異なる少なくとも2種類のSiO2 -GeO2 組成膜の交互多層構造とすることにより、Geの濃度を膜の厚さ方向で局所的にかつ周期的に高めることができる。交互多層構造コア3においてGe濃度の高い層は、Ge濃度の低い層よりもGe同志が隣合わせになる確率が増加する。すなわち、屈折率変化を起こさせる要因となるGe同志の結合の割合を増加させることができる。よって、紫外光を照射した時の屈折率変化の大きい光導波路が得られる。

Claim (excerpt)：

低屈折率層を有する平面基板と、この平面基板の上に形成された屈折率の高いコアガラス膜を加工してなる略矩形断面形状のコアと、このコアを覆う低屈折率のガラス膜からなる光導波路において、上記コアガラス膜をGe濃度の異なる少なくとも2種類のSiO2 組成膜の交互多層膜構造としたことを特徴とする光導波路。

IPC (3)：

G02B 6/122 , G02B 6/12 , G02B 6/13

FI (3)：

G02B 6/12 A , G02B 6/12 N , G02B 6/12 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平1-230005
低損失光導波路及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-247435 Applicant：日立電線株式会社
積層体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-316471 Applicant：積水化学工業株式会社

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