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J-GLOBAL ID：200903038349172421

光学画像取得装置、パターン検査装置、光学画像取得方法、及び、パターン検査方法

Inventor： 平野 亮一 ,  小川 力
Applicant, Patent owner： アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社
Agent (3)： 松山 允之 ,  河西 祐一 ,  池上 徹真
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006024079
Publication number (International publication number)：2007205828
Application date： Feb. 01, 2006
Publication date： Aug. 16, 2007
Summary：

【課題】検査対象試料のパターンの高コントラスト光学画像を得ること。【解決手段】検査対象試料を載置する載置部と、載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、検査対象試料に照射する照射光の光量を増減する光量調整部と、検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、を備え、検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する、光学画像取得装置。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

検査対象試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得装置において、 検査対象試料を載置する載置部と、 載置部に載置された検査対象試料に光を照射する光照射部と、 検査対象試料に照射する照射光の光量を増減する光量調整部と、 検査対象試料に照射された照射光を受光する光学画像受光部と、を備え、 検査対象試料の特定パターンに対して照射光の光量を増減する、光学画像取得装置。

IPC (1)：

G01N 21/956

FI (1)：

G01N21/956 A

F-Term (13)：

2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA11 ,  2G051BB03 ,  2G051BC01 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051DA08 ,  2G051EA08 ,  2G051EA12 ,  2G051EB09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• マスクパターンの検査方法、検査装置、これに用いられる検査用データおよび検査用データ生成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-393946   Applicant：松下電器産業株式会社

Cited by examiner (4)

• 検査方法およびその装置並びに半導体基板の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-134145   Applicant：株式会社日立製作所
• 検査方法、検査装置およびマスク欠陥検査方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-065118   Applicant：株式会社東芝
• パターン検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-047310   Applicant：富士通株式会社
• マスクパターンの検査方法、検査装置、これに用いられる検査用データおよび検査用データ生成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-393946   Applicant：松下電器産業株式会社