マスクパターンの検査方法、検査装置、これに用いられる検査用データおよび検査用データ生成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003393946
Publication number (International publication number)：2004191957
Application date： Nov. 25, 2003
Publication date： Jul. 08, 2004
Summary：

【課題】 TATの短縮とコストの削減を図ることの可能なフォトマスクの検査方法を提供する。【解決手段】描画パターンデータに基づいて形成された半導体集積回路用のフォトマスクを検査する方法において、前記半導体集積回路の描画パターンを、所定の特徴基準に従って、複数のランクに分類して抽出する工程と、当該ランク毎に検査精度を決定し、この決定された検査精度を満たしているか否かによってフォトマスクの良否を判定する工程とを具備している。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

描画パターンデータに基づいて形成された半導体集積回路用のフォトマスクを検査する方法において、前記半導体集積回路の描画パターンを、当該描画パターンの特徴に応じて決定される基準に従って、複数のランクに分類して抽出する工程と、当該ランク毎に検査精度を決定し、抽出された前記描画パターン毎に、この決定された検査精度を満たしているか否かによって、フォトマスクの良否を判定する工程とを有することを特徴とするフォトマスクの検査方法。

IPC (3)：

G03F1/08 , G01N21/956 , H01L21/027

FI (3)：

G03F1/08 S , G01N21/956 A , H01L21/30 502P

F-Term (5)：

2G051AA56 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2H095BD04 , 2H095BD24

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

特願2002-229215号

Cited by examiner (4)

フォトマスクの欠陥検査方法、フォトマスクの欠陥検査装置及び記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-038215 Applicant：株式会社東芝, 大日本印刷株式会社
欠陥検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-284142 Applicant：株式会社東芝
付加図形付きフォトマスクの欠陥検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-318502 Applicant：大日本印刷株式会社

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