パターン形成材料

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995351957
Publication number (International publication number)：1997185158
Application date： Dec. 27, 1995
Publication date： Jul. 15, 1997
Summary：

【要約】【課題】電子線、X線、遠紫外線等の放射線を使用して半導体素子、光学素子等の機能素子の表面に超微細加工技術によるパターンを形成する際、安定かつ解像度、再現性に優れたパターンを与え、微細加工が可能なパターン形成材料を得る。【解決手段】アルカリ可溶性ポリマーの水酸基の全部又は一部をターシャリーブトキシカルボニルオキシ基及び/又はターシャリーブトキシ基で保護したポリマーをベースポリマーとする化学増幅型パターン形成材料に、脱離助剤としてアルコール性水酸基を有する化合物を配合する。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性ポリマーの水酸基の全部又は一部をターシャリーブトキシカルボニルオキシ基及び/又はターシャリーブトキシ基で保護したポリマーをベースポリマーとする化学増幅型パターン形成材料に、脱離助剤としてアルコール性水酸基を有する化合物を配合することを特徴とするパターン形成材料。

IPC (3)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/039 501 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-323191 Applicant：信越化学工業株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-261875 Applicant：日本合成ゴム株式会社
パタン形成材料及びそれを用いたパタン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-280883 Applicant：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社

Show all

Return to Previous Page