研磨液組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：細田芳徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998098749
Publication number (International publication number)：1999293231
Application date： Apr. 10, 1998
Publication date： Oct. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】被研磨物に欠陥を生じずに表面粗さを低減する研磨液組成物を提供すること。【解決手段】式(I):【化1】〔R1 〜R2 は水素又はメチル基、Xは水素又は炭素数1〜3のアルキル基、AOは炭素数2〜3のアルキレンオキシド基、m1 は0〜2の整数、nは1〜300の整数〕の単量体Aと、式(II):【化2】〔R3 〜R5 は水素、メチル基又は-(CH2)m2COOM2 基(M2は水素、アルカリ金属又はアミノ基、m2は0〜2の整数)、M1は水素、アルカリ金属又はアミノ基、R3 、R4 又はR5 と-COOM1 基とで酸無水物基を形成してもよい〕の単量体及び式(III) :【化3】〔R6 は水素又はメチル基、Yは水素、アルカリ金属又はアミノ基〕から選ばれた単量体Bとを単量体A/単量体Bの重量比0.5 〜50で重合させた共重合体、研磨材及び水を含有する研磨液組成物。

Claim (excerpt)：

式(I):【化1】〔式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基、Xは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基、AOは炭素数2又は3のアルキレンオキシド基、m1 は0〜2の整数、nは1〜300 の整数を示す〕で表される単量体(A)と、式(II):【化2】〔式中、R3 、R4 及びR5 はそれぞれ独立して水素原子、メチル基又は-(CH2 )m2 COOM2 基(M2 は水素原子、アルカリ金属原子又はアミノ基、m2 は0〜2の整数を示す)、M1 は水素原子、アルカリ金属原子又はアミノ基を示す。なお、R3 、R4 又はR5 と-COOM1 基とは結合して酸無水物基を形成してもよい〕で表される単量体及び式(III) :【化3】〔式中、R6 は水素原子又はメチル基、Yは水素原子、アルカリ金属原子又はアミノ基を示す〕で表される単量体からなる群より選ばれた少なくとも1種の単量体(B)とを、単量体(A)と単量体(B)の重量比〔単量体(A)/単量体(B)〕が0.5 〜50となるようにして重合させて得られた共重合体、研磨材、及び水を含有する磁気記録媒体用研磨液組成物。

IPC (2)：

C09K 3/14 550 , H01L 21/304 622

FI (2)：

C09K 3/14 550 K , H01L 21/304 622 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

ハードディスク基板の研磨用組成物及びこれを用いる研磨方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-298091 Applicant：三菱化学株式会社
特開昭61-218680
特開昭51-112447

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