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J-GLOBAL ID：200903038631485580

流体圧力インプリント・リソグラフィ

Inventor： チヨウ,スティーヴン,ワイ.
Applicant, Patent owner： ナノネックス コーポレーション ,  チヨウ,スティーヴン,ワイ.
Agent (11)： 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  産形 和央 ,  臼井 伸一 ,  藤野 育男 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  高梨 憲通 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎 ,  吉澤 弘司
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002513006
Publication number (International publication number)：2004504718
Application date： Jul. 02, 2001
Publication date： Feb. 12, 2004
Summary：

インプリント・リソグラフィの改良型方法には、基板に支持された薄膜に型を押し込むための直接流体圧力を使用する工程が含まれている(A)。有利には、型および/または基板は十分に柔軟であり、流体圧力の下で広範囲の接触を提供している(C)。流体による押込みは、薄膜に型を封じ込み、それによって得られるアセンブリを加圧チャンバ内に配置することによって実現される。また、流体による押込みは、型を加圧流体の噴流にさらすことによっても実現することができる。この流体による押込みの結果、解像度が向上し、かつ、広範囲にわたる高度な均一性が得られる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板の表面に成形可能層を塗布する工程と、 複数の突出フィーチャを有する成形表面を備えた型を提供する工程と、 直接流体圧力によって成形表面および成形可能層を共に押し付け、突出フィーチャの下側の成形可能層の厚さを薄くし薄くなった領域を生成する工程と、 成形可能層から型を取り去る工程とを含む、基板の表面を処理するための方法。

IPC (1)：

H01L21/027

FI (1)：

H01L21/30 502D

F-Term (1)：

5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 光学マイクロレンズのネットワークを製造する方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-172408   Applicant：コーニングインコーポレイテッド
• 物品の面をスタンピングするための装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-048498   Applicant：モトローラ・インコーポレイテッド
• 半導体基板とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-257850   Applicant：日本電信電話株式会社, 益田秀樹