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J-GLOBAL ID：200903038698078130

光学素子の表面加工方法

Inventor： 西 井 準 治 ,  金 高 健 二 ,  川 本 泰 ,  菊 田 久 雄 ,  水 谷 彰 夫
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  株式会社モリテックス
Agent (2)： 澤野 勝文 ,  川尻 明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002208102
Publication number (International publication number)：2004051388
Application date： Jul. 17, 2002
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

【課題】光が光学素子を透過する際にその境界面で生じる反射を少なくして、光透過率をより向上させる。【解決手段】パターニング工程(S1)で、ガラス基材(2)の表面に塗布したレジスト膜(5)に光の波長レベルの周期の格子パターンを露光し、これを現像した後、ドライエッチング工程(S2)でガラス基材(2)の表面にドライエッチングを施して格子パターンの隙間に周期的な突起(3)を形成し、コーティング工程(S3)で少なくとも屈折率が基材と等しい材料でオーバーコート層(4)を形成し、熱処理工程(S4)でオーバーコート層(4)とガラス基材(2)をこれらが密着する温度まで加熱した後、ウェットエッチング工程(S5)でオーバーコート層(4)の表面をエッチング液に浸してその表面を円滑に仕上るようにした。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

ガラス基材(2)により形成される光学素子の表面の反射率を低下させて透過率を向上させる光学素子の表面加工方法であって、ガラス基材(2)の表面に塗布形成された感光性レジスト膜(5)に光の波長レベル又はそれ以下の周期の格子パターンを露光するパターニング工程(S1)と、現像したレジスト膜(5)の上からガラス基材(2)の表面にドライエッチングを施して前記格子パターンのピッチに応じた周期的な微小突起(3)を形成するドライエッチング工程(S2)と、前記微小突起(3)の表面に前記ガラス基材(2)と少なくとも屈折率が等しい材料でオーバーコート層(4)を形成するコーティング工程(S3)と、該オーバーコート層(4)とガラス基材(2)をこれらが密着する温度まで加熱する熱処理工程(S4)と、熱処理完了後、オーバーコート層(4)の表面をエッチング液に浸してその表面を円滑に仕上るウェットエッチング工程(S5)とからなることを特徴とする光学素子の表面加工方法。

IPC (3)：

C03C15/00 ,  C03C17/02 ,  G02B1/11

FI (5)：

C03C15/00 A ,  C03C15/00 D ,  C03C15/00 E ,  C03C17/02 A ,  G02B1/10 A

F-Term (18)：

2K009AA12 ,  2K009BB02 ,  2K009DD03 ,  2K009DD06 ,  2K009DD12 ,  4G059AA11 ,  4G059AB01 ,  4G059AB06 ,  4G059AB07 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC01 ,  4G059AC04 ,  4G059BB01 ,  4G059BB04 ,  4G059BB14 ,  4G059CA01 ,  4G059CB02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-252902
  
• 光学素子の作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-301709   Applicant：キヤノン株式会社
• 光学素子及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-321501   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所, 株式会社モリテックス