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J-GLOBAL ID:200903039134358563
エアフィルタ装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
亀井 弘勝 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998121202
Publication number (International publication number):1999309325
Application date: Apr. 30, 1998
Publication date: Nov. 09, 1999
Summary:
【要約】【課題】半導体工業のクリーンルーム等で使用されるエアフィルタ装置10において、小型化を図り、かつ吹出気流の均一性を向上させる。【解決手段】フィルタ濾材として圧力損失の少ないPTFEを用い、PTFEの構成を所定の範囲に特定する。それにより、フィルタ12の圧力損失を低減し、圧力損失が低減した分だけ、フィルタ12に供給される気流が導入されるチャンバ17の容積を小さくする。また、チャンバ17内に堰21を設けて、チャンバ17内で気流の大きな対流渦が生じるのを防止する。
Claim (excerpt):
送風装置(11)、フィルタ(12)および送風装置(11)の生じる気流をフィルタ(12)に導く風路(13)を有し、フィルタ(12)を通過した気流(A2)が被送風物へ吹き出すようにしたエアフィルタ装置であって、前記フィルタ(12)は、ポリテトラフルオロエチレン多孔膜からなり、5.3cm/秒の流速で空気を通過させたときの圧力損失が2〜100mmH2 Oであり、0.10〜0.12μmのジオクチルフタレートを用いた捕集効率から下記式(1)により計算されるPF値が少なくとも8であるフィルタ濾材を含み、【数1】前記風路(13)のフィルタ(12)に臨む空間(17)は、フィルタ(12)に進入する気流の静圧を増すためのチャンバ(17)とされていることを特徴とするエアフィルタ装置。
IPC (6):
B01D 46/54
, B01D 39/16
, B01D 71/36
, B32B 5/18
, F24F 7/06
, H01L 21/02
FI (6):
B01D 46/54
, B01D 39/16 C
, B01D 71/36
, B32B 5/18
, F24F 7/06 C
, H01L 21/02 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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