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J-GLOBAL ID：200903039321554317

断層映像装置

Inventor：
藤田 寛

About 藤田 寛


Applicant, Patent owner：
フジノン株式会社

About フジノン株式会社


Agent (1)： 川野 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003317841
Publication number (International publication number)：2005083954
Application date： Sep. 10, 2003
Publication date： Mar. 31, 2005
Summary：
【目的】被検体深さが大きくなるのに従い観察位置からの反射光強度が低下し、これによる干渉波情報量の低下が生じるが、この低下を緩和するべく、参照ミラーの移動位置に応じて光源光強度を変化させることで、1つの断層映像において、被検体深さに拘わらず同様の明るさレベルとし、特に深い部分についての状態判断を誤る危険性を低減する。【構成】被検体31の観察位置の深さが大となるのに伴う被検体31の観察位置からの反射光強度の低下を緩和するように、参照ミラー42の移動位置に応じて光源10から出力光強度を変化させる制御部1を設けている。制御部1は、この光源光強度制御テーブルに基づき、被検体31の深さ位置に相当する参照ミラー42の移動位置に応じて、光源10の強度を指数関数的に変化させる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
低可干渉性を有する光ビームを出射する光源と、 該光源から出射された光ビームを2分し、一方を被検体に照射するとともに、他方を参照ミラーに照射し、該被検体および該参照ミラーから各々反射された光ビームを干渉せしめて、該干渉による光強度分布を光検出器により得るようにした等光路長型干渉計とを備え、 該被検体の深さ方向の干渉波情報を得ることができるように該参照ミラーを該参照ミラーの光軸方向に移動可能とされた断層映像装置において、 該被検体の観察位置の深さが大きくなるのに伴う該観察位置からの反射光量の低下による干渉波情報量の低下を緩和するように、該参照ミラーの移動位置に応じて前記光源から出力される光ビームの強度を変化させる光源光強度制御部を備えてなることを特徴とする断層映像装置。
IPC (6)：
G01N21/17 ,  A61B1/00 ,  A61B10/00 ,  G01B9/02 ,  G01N21/35 ,  G02B7/28
FI (6)：
G01N21/17 620 ,  A61B1/00 300D ,  A61B10/00 E ,  G01B9/02 ,  G01N21/35 Z ,  G02B7/11 H
F-Term (40)：
2F064AA15 ,  2F064EE01 ,  2F064FF02 ,  2F064GG02 ,  2F064GG12 ,  2F064GG65 ,  2F064HH03 ,  2G059AA05 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG10 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059JJ25 ,  2G059KK01 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059PP04 ,  2H051AA00 ,  2H051BB31 ,  4C061AA00 ,  4C061BB00 ,  4C061CC06 ,  4C061DD00 ,  4C061GG01 ,  4C061HH51 ,  4C061JJ11 ,  4C061SS21
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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