化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002051036
Publication number (International publication number)：2003156849
Application date： Feb. 27, 2002
Publication date： May. 30, 2003
Summary：

【要約】【課題】感度、解像度などの基本的な性能を落とさずにコストが低減され、また定在波による凹凸が小さく、パターンプロファイル、特にラインエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】ノボラック樹脂、及びそれ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、及び酸発生剤を含有し、該ノボラック樹脂が、ポリスチレンを標準品として該ノボラック樹脂をゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で254nmのUV検出器を用いて測定したときに、未反応のモノマーを除く全パターン面積に対して、分子量1,000以下の範囲の面積比が25%以下のノボラック樹脂である化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

ノボラック樹脂、及びそれ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、及び酸発生剤を含有し、該ノボラック樹脂が、ポリスチレンを標準品として該ノボラック樹脂をゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で254nmのUV検出器を用いて測定したときに、未反応のモノマーを除く全パターン面積に対して、分子量1,000以下の範囲の面積比が25%以下のノボラック樹脂であることを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (15)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB29 , 2H025CB41 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-365798 Applicant：日立化成工業株式会社
ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造法及び電子装置の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-239111 Applicant：日立化成工業株式会社, 株式会社日立製作所
特開昭63-250642

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