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J-GLOBAL ID：200903039334822078

有害ガスの浄化方法

Inventor： 島田 孝 ,  畠山 俊哉 ,  笠谷 尚史
Applicant, Patent owner： 日本パイオニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995125935
Publication number (International publication number)：1996294617
Application date： Apr. 26, 1995
Publication date： Nov. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 半導体製造工程などで使用され、排ガス中などに含まれてくるハロゲン化ケイ酸エステルガスを安全、かつ、効率よく除去する。【構成】 ハロゲン化ケイ酸エステルを含有するガスを、酸化銅(II)および酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物に水酸化カリウムなどのアルカリ化合物を添着させた浄化剤と接触させる。

Claim (excerpt)：

有害成分としてハロゲン化ケイ酸エステルを含有するガスを、酸化銅(II)および酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物にアルカリ金属化合物を添着せしめてなる浄化剤と接触させ、該ガスから有害成分を除去することを特徴とする有害ガスの浄化方法。

IPC (3)：

B01D 53/68 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01J 20/06

FI (4)：

B01D 53/34 134 A ,  B01J 20/06 B ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 有害ガスの浄化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-139269   Applicant：日本パイオニクス株式会社
• 有害ガスの浄化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-167275   Applicant：日本パイオニクス株式会社
• 有害ガスの浄化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-308649   Applicant：日本パイオニクス株式会社