極端紫外光源装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：宇都宮正明 , 渡部温 , 柳瀬睦肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006097037
Publication number (International publication number)：2007273239
Application date： Mar. 31, 2006
Publication date： Oct. 18, 2007
Summary：

【課題】レーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置において、プラズマから放出されるイオン等の荷電粒子を効率よく排出する。【解決手段】ターゲット物質を供給するターゲットノズル4と、該ターゲットノズルによって供給されるターゲット物質に対してレーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザ発振器1と、該プラズマから放射される極端紫外光を集光するEUV集光ミラー5と、ターゲット物質に対してレーザビームを照射する位置に非対称な磁場を形成する電磁石コイル6及び7とを有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置であって、ターゲット物質を供給するターゲットノズルと、前記ターゲットノズルによって供給されるターゲット物質に対してレーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザ発振器と、該プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光光学系と、前記ターゲット物質に対してレーザビームを照射する位置に非対称な磁場を形成する磁場形成手段と、を具備する極端紫外光源装置。

IPC (4)：

H05G 2/00 , G21K 5/02 , G21K 5/08 , H01L 21/027

FI (4)：

H05G1/00 K , G21K5/02 X , G21K5/08 X , H01L21/30 531S

F-Term (9)：

4C092AA06 , 4C092AA14 , 4C092AA15 , 4C092AA17 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 4C092BD18 , 4C092BD20 , 5F046GC03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

米国特許US6,987,279B2
光源装置及びそれを用いた露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-002142 Applicant：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
極端紫外光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-261871 Applicant：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社

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Cited by examiner (3)

光源装置及びそれを用いた露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-002142 Applicant：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
極端紫外光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-261871 Applicant：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
プラズマX線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-171155 Applicant：石川島播磨重工業株式会社

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