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J-GLOBAL ID:200903039598762944

極端紫外光源装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 宇都宮 正明 ,  渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006097037
Publication number (International publication number):2007273239
Application date: Mar. 31, 2006
Publication date: Oct. 18, 2007
Summary:
【課題】レーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置において、プラズマから放出されるイオン等の荷電粒子を効率よく排出する。【解決手段】ターゲット物質を供給するターゲットノズル4と、該ターゲットノズルによって供給されるターゲット物質に対してレーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザ発振器1と、該プラズマから放射される極端紫外光を集光するEUV集光ミラー5と、ターゲット物質に対してレーザビームを照射する位置に非対称な磁場を形成する電磁石コイル6及び7とを有する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
レーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置であって、 ターゲット物質を供給するターゲットノズルと、 前記ターゲットノズルによって供給されるターゲット物質に対してレーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザ発振器と、 該プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光光学系と、 前記ターゲット物質に対してレーザビームを照射する位置に非対称な磁場を形成する磁場形成手段と、 を具備する極端紫外光源装置。
IPC (4):
H05G 2/00 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/08 ,  H01L 21/027
FI (4):
H05G1/00 K ,  G21K5/02 X ,  G21K5/08 X ,  H01L21/30 531S
F-Term (9):
4C092AA06 ,  4C092AA14 ,  4C092AA15 ,  4C092AA17 ,  4C092AB19 ,  4C092AC09 ,  4C092BD18 ,  4C092BD20 ,  5F046GC03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
  • 米国特許US6,987,279B2
  • 光源装置及びそれを用いた露光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-002142   Applicant:株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
  • 極端紫外光源装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-261871   Applicant:株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
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Cited by examiner (3)
  • 光源装置及びそれを用いた露光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-002142   Applicant:株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
  • 極端紫外光源装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-261871   Applicant:株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社
  • プラズマX線発生装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-171155   Applicant:石川島播磨重工業株式会社

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