光源装置及びそれを用いた露光装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：宇都宮正明 , 渡部温 , 柳瀬睦肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004002142
Publication number (International publication number)：2005197456
Application date： Jan. 07, 2004
Publication date： Jul. 21, 2005
Summary：

【課題】 EUV光の捕集立体角及び捕集率を確保しつつ、ミラーコーティングに有害であるとされるデブリから集光ミラーを保護することにより、集光ミラーを長寿命化し、ランニングコストを低減することができる光源装置を提供する。【解決手段】ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、ターゲットとなる物質を供給するターゲット供給部3、4と、ターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ部1、2と、プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する集光光学系5と、プラズマから放出される荷電粒子をトラップするために、電流が供給されたときに集光光学系内に磁場を発生させる磁場発生手段6、7とを具備する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、前記ターゲットとなる物質を供給するターゲット供給部と、前記ターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ部と、前記プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する集光光学系と、前記プラズマから放出される荷電粒子をトラップするために、電流が供給されたときに前記集光光学系内に磁場を発生させる磁場発生手段と、を具備する光源装置。

IPC (7)：

H01L21/027 , G03F7/20 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/08 , H05G2/00 , H05H1/24

FI (9)：

H01L21/30 531S , G03F7/20 503 , G21K5/00 Z , G21K5/02 X , G21K5/08 X , H05H1/24 , H01L21/30 531A , H01L21/30 517 , H05G1/00 K

F-Term (9)：

2H097AA02 , 2H097CA15 , 2H097LA10 , 4C092AA06 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 4C092BD20 , 5F046GA03 , 5F046GC03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

特許第3433151号公報(第2,3頁、図1)
特許第2552433号公報(第2,4頁、図1)
デブリ軽減システムを有するリソグラフィ装置、デブリ軽減システムを有するEUV放射線発生源、及びデブリを軽減させる方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-546878 Applicant：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.

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Cited by examiner (7)

デブリ軽減システムを有するリソグラフィ装置、デブリ軽減システムを有するEUV放射線発生源、及びデブリを軽減させる方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-546878 Applicant：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
特許第2552433号
光源装置及びそれを用いた露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-285025 Applicant：ギガフォトン株式会社

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