光情報処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：滝本智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998113148
Publication number (International publication number)：1999305864
Application date： Apr. 23, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、アレイ状に集積化された光情報処理装置において、発光部の発熱による素子温度上昇を抑圧し、多画素数の光情報処理装置を実現することを目的とする。【解決手段】光受光部3と、光受光部3で受信した情報を処理する演算処理部2と、演算処理部2の演算結果を出力する光発光部5を、アレイ状に配置した光情報処理装置において、良好な熱伝導性を有するシート状放熱材7を、光発光部5に接触して配置する。良好な熱伝導性を有するシート状放熱材7としては、高分子フィルムを出発原料とし、不活性ガス雰囲気中で黒鉛化に至る温度範囲で昇温温度を制御しながら焼成する熱工程によって作製したグラファイトフィルムを用いる。

Claim (excerpt)：

光受光部と、光受光部で受信した情報を処理する演算処理部と、演算処理部の演算結果を出力する光発光部をアレイ状に配置し、良好な熱伝導性を有するシート状放熱材を前記光発光部に接触して配したことを特徴とする光情報処理装置。

IPC (2)：

G06E 3/00 , G02F 3/00

FI (2)：

G06E 3/00 , G02F 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

半導体素子用ダイボンド材およびそれを用いた半導体装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-141402 Applicant：松下電器産業株式会社
特開昭63-318188
ダイヤモンドヒートシンクおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-000955 Applicant：住友電気工業株式会社

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