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J-GLOBAL ID：200903039923675077

オゾン水製造装置

Inventor： 森田 直年 ,  奥川 圭介
Applicant, Patent owner： 日本特殊陶業株式会社
Agent (1)： 加藤 壯祐 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996358183
Publication number (International publication number)：1998192867
Application date： Dec. 27, 1996
Publication date： Jul. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】 オゾンガスと水とを混合してオゾン水を生成するオゾン水製造装置において、水に溶け込まなかった余剰オゾンガスがオゾン水と共に装置から吐出されることを確実に防止する。【解決手段】 気液混合装置10の後段に設けられた気液分離槽20に、底壁22から上方に延出する遮蔽板40を設け、気液分離槽20を気液混合液導入口21側とオゾン水吐出口23側とに分画する。このように形成すると、気液混合液導入口21側の気液混合液39中の余剰オゾンガスからなる気泡41は、遮蔽板40に妨げられオゾン水吐出口23側に浮遊しない。このため、気液分離槽20のオゾン水吐出口23側には気泡41を含まないオゾン水43が溜まる。

Claim (excerpt)：

オゾンガスと水とを混合してオゾン水を生成するオゾン水製造装置であって、オゾンガスと水とを混合する気液混合手段と、余剰オゾンガスとオゾン水とを分離するための気液分離槽とを備え、その気液分離槽の底壁近傍にはオゾン水吐出口が設けられ、気液分離槽の上方には余剰オゾンガス排出口が設けられたものにおいて、前記気液分離槽には、気液混合手段とオゾン水吐出口とを画する遮蔽部材が設けられていることを特徴とするオゾン水製造装置。

IPC (5)：

C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  B01F 3/04 ,  C02F 1/78

FI (5)：

C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 A ,  C02F 1/50 550 C ,  B01F 3/04 F ,  C02F 1/78

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭51-026685
  
• オゾン水生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-047550   Applicant：トキコ株式会社
• オゾン水製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-220535   Applicant：富士電機株式会社