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J-GLOBAL ID:200903039988423652

微細構造体及びその製造方法、電場増強デバイス

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007105190
Publication number (International publication number):2008261752
Application date: Apr. 12, 2007
Publication date: Oct. 30, 2008
Summary:
【課題】高効率、且つ効果的な電場増強効果が得られる微細構造体を提供する。【解決手段】微細構造体1は、表面11sに複数の微細孔12が開口した誘電体基材11の微細孔12内に微細金属体20を備える。微細金属体20は微細孔12内に充填された充填部21と、充填部21の径よりも大きく、且つ局在プラズモンを誘起しうる大きさの径を有する頭部22hを備えた誘電体基材表面11sより突出する突出部22とからなる。複数の微細金属体20の頭部22hの最大径rを有する部分は、誘電体基材表面11sから離間している。【選択図】図1
Claim (excerpt):
表面に複数の微細孔が開口した誘電体基材と、 該誘電体基材の前記微細孔内に充填された充填部と、該充填部上に前記誘電体基材表面より突出して形成され、該充填部の径よりも大きく、且つ局在プラズモンを誘起しうる大きさの径を有する頭部を備えた突出部とからなる複数の微細金属体とを備えた微細構造体であって、 前記複数の微細金属体の頭部の最大径を有する部分が、前記誘電体基材表面から離間していることを特徴とする微細構造体。
IPC (1):
G01N 21/65
FI (1):
G01N21/65
F-Term (8):
2G043AA01 ,  2G043GA07 ,  2G043GB01 ,  2G043GB02 ,  2G043GB05 ,  2G043GB16 ,  2G043JA01 ,  2G043KA09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

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