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J-GLOBAL ID:200903040037708310
一酸化炭素除去用触媒複合体及びそれを用いた一酸化炭素除去方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002355792
Publication number (International publication number):2004188243
Application date: Dec. 06, 2002
Publication date: Jul. 08, 2004
Summary:
【課題】本発明の目的は、低濃度から高濃度まで広範囲の濃度における一酸化炭素の除去が可能であり、常温で長期にわたり高活性を維持することができる、気体中の一酸化炭素除去用触媒複合体及びそれを用いた一酸化炭素の除去方法を提供することにある。【解決手段】平均粒子径が25nm以下の金粒子が金属酸化物に担持された金ナノ粒子触媒とアルカリ性多孔質体とを含有する一酸化炭素除去用触媒複合体、及びそれを用いた一酸化炭素除去方法等に関する。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
平均粒子径が25nm以下の金粒子が金属酸化物に担持された金ナノ粒子触媒とアルカリ性多孔質体とを含有する一酸化炭素除去用触媒複合体。
IPC (6):
B01J27/232
, A61L9/00
, A61L9/01
, A61L9/16
, A61L9/18
, B01D53/94
FI (6):
B01J27/232 A
, A61L9/00 C
, A61L9/01 B
, A61L9/16
, A61L9/18
, B01D53/36 104Z
F-Term (69):
4C080AA07
, 4C080BB02
, 4C080CC02
, 4C080CC12
, 4C080HH05
, 4C080JJ04
, 4C080KK08
, 4C080LL10
, 4C080MM02
, 4C080MM03
, 4C080MM04
, 4C080MM05
, 4C080MM06
, 4C080MM07
, 4C080QQ11
, 4D048AA13
, 4D048AB01
, 4D048BA03Y
, 4D048BA05X
, 4D048BA06Y
, 4D048BA07Y
, 4D048BA11Y
, 4D048BA14X
, 4D048BA15Y
, 4D048BA34X
, 4D048BA36X
, 4D048BA41X
, 4D048BA45X
, 4D048BB01
, 4D048BB02
, 4D048BB08
, 4D048BB17
, 4D048CC40
, 4D048DA03
, 4D048DA13
, 4D048EA01
, 4G069AA03
, 4G069BA02A
, 4G069BA03A
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA07A
, 4G069BA08A
, 4G069BA08B
, 4G069BA47A
, 4G069BB02A
, 4G069BB02B
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BB05A
, 4G069BB16A
, 4G069BB16B
, 4G069BC01A
, 4G069BC03B
, 4G069BC08A
, 4G069BC33A
, 4G069BC33B
, 4G069BC66A
, 4G069BC66B
, 4G069CA02
, 4G069CA03
, 4G069CA07
, 4G069CA14
, 4G069EA02X
, 4G069EA02Y
, 4G069EA03X
, 4G069EA03Y
, 4G069EA18
, 4G069EC02X
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
ガス精製用処理剤及びガス精製装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-246235
Applicant:日本酸素株式会社
-
光照射による貴金属担持金属酸化物触媒反応における反応促進方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-158411
Applicant:経済産業省産業技術総合研究所長, 科学技術振興事業団
-
ヘテロ元素含有オキシド化合物の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-138819
Applicant:工業技術院長, 株式会社日本触媒
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