光透過ナノスタンプ方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：平木祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003077832
Publication number (International publication number)：2004288802
Application date： Mar. 20, 2003
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：

【課題】新規な光透過ナノプリント法を提供する。【解決手段】基板上に微細構造を形成するために、基板と、表面に微細な凹凸が形成されたスタンパを加圧し、スタンパ裏面より光照射する光透過ナノスタンプ方法において、前記基板にポジ型レジスト層を形成する工程、光透過性スタンパを基板上のポジ型レジスト層に加圧し、レジスト層を変形させる工程、光透過性スタンパ裏面より光を照射する工程、レジストを現像し、部分的に可溶化する工程、を含むことを特徴とする光透過ナノスタンプ方法。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

基板上に微細構造を形成するために、基板と、表面に微細な凹凸が形成されたスタンパを加圧し、スタンパ裏面より光照射する光透過ナノスタンプ方法において、前記基板にポジ型レジスト層を形成する工程、光透過性スタンパを基板上のポジ型レジスト層に加圧し、レジスト層を変形させる工程、光透過性スタンパ裏面より光を照射する工程、レジストを現像する工程、を含むことを特徴とする光透過ナノスタンプ方法。

IPC (2)：

H01L21/027 , G03F7/38

FI (2)：

H01L21/30 502D , G03F7/38 501

F-Term (9)：

2H096AA25 , 2H096BA09 , 2H096DA10 , 2H096EA02 , 2H096EA03 , 2H096EA16 , 2H096GA08 , 2H096HA11 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

薄膜パターン製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-270458 Applicant：株式会社日立製作所
サブ波長構造体の製造
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-393046 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
微細パターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-312158 Applicant：大日本印刷株式会社

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Cited by examiner (4)

薄膜パターン製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-270458 Applicant：株式会社日立製作所
サブ波長構造体の製造
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-393046 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
微細パターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-312158 Applicant：大日本印刷株式会社

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