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J-GLOBAL ID：200903064149537264

サブ波長構造体の製造

Inventor：
ドクター・マルクス・シュミット

About ドクター・マルクス・シュミット


Applicant, Patent owner：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

About インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション


Agent (3)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003393046
Publication number (International publication number)：2004200664
Application date： Nov. 21, 2003
Publication date： Jul. 15, 2004
Summary：
【課題】基板上にサブ波長寸法の構造体を製造する方法を提供すること。【解決手段】導波路構造体16を持ちフォトレジスト12より屈折率が大きい親水性材料のスタンプを作製し、基板14上に形成した変形しうるフォトレジスト12に押印する。その導波路構造体16に光を受容させることにより、エバネッセント光を生成させ、導波路構造体16に隣接する微少なフォトレジスト12を露光する。露光後、現像処理をしてサブ波長構造体を形成する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
変形しうるフォトレジスト(12、24)が基板(14)の上部に配置されており、 a)導波路構造体(16)をもち、用いられるフォトレジスト(12、24)より屈折率が大きい材料からなる親水性スタンプ(10)を形作るステップ; b)前記スタンプ(10)と前記基板(14)を接触させることにより、前記の変形しうるフォトレジスト(12、24)に前記導波路構造体(16)を押印するステップ; c)導波路構造体(16)に光を受容することにより、エバネッセント波を生成させて前記フォトレジスト(12、24)を露光させるステップ;および d)前記フォトレジスト(12、24)を現像するステップ; により特徴づけられる、前記基板(14)上にサブ波長構造体(22、26)を製造する方法。
IPC (4)：
H01L21/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G11B5/84
FI (4)：
H01L21/30 502D ,  G03F7/004 511 ,  G03F7/20 521 ,  G11B5/84 Z
F-Term (13)：
2H025AA02 ,  2H025AB14 ,  2H025AB20 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025AD05 ,  2H025BC13 ,  2H025BE01 ,  2H025EA03 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA10 ,  5F046AA28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • EP-A-1 011 311
Cited by examiner (2)

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