X線露光用マスク

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：市之瀬宮夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994121829
Publication number (International publication number)：1995307280
Application date： May. 11, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 X線透過膜としてSiNを用いたときに生じるX線照射による位置歪みの問題を解決し、パターン位置精度を長期に亘って維持可能なX線マスクを提供する。【構成】少なくともX線吸収性パターン24と、該X線吸収性パターン24を保持するX線透過膜と、該X線透過膜の外周を固定する支持枠体21とを有するX線マスクであって、上記X線透過膜は、引っ張り応力を有し且つX線を照射することによって応力が緩和する主X線透過膜22の両面にそれぞれ、圧縮性応力を有し且つX線を照射することによって応力が緩和する副X線透過膜23、25を形成した構造とする。

Claim (excerpt)：

少なくともX線吸収性パターンと、該X線吸収性パターンを保持するX線透過膜と、該X線透過膜の外周を固定する支持枠体とを有するX線露光用マスクにおいて、前記X線透過膜は、引っ張り応力を有し且つX線を照射することによって応力が緩和する主X線透過膜の両面に、圧縮性応力を有し且つX線を照射することによって応力が緩和する副X線透過膜を形成してなることを特徴とするX線露光用マスク。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開昭56-157031
特開昭63-285932
X線露光用マスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-315430 Applicant：松下電工株式会社

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