Pat
J-GLOBAL ID:200903040439096230

真空成膜装置、そのマスク着脱装置、及びマスク位置合わせ方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴木 利之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997343645
Publication number (International publication number):1999158605
Application date: Dec. 01, 1997
Publication date: Jun. 15, 1999
Summary:
【要約】【課題】 位置合わせ後のマスクを磁気吸引力で基板表面に密着固定することにより、薄いマスクであっても基板表面に密着させて、マスクと基板表面の間に隙間が生じないようにする。【解決手段】 非磁性材料製の基板30の上方には磁石保持体32があり、この磁石保持体32には4個の永久磁石34が固定されている。基板30の下方には、磁性材料製の薄板状のマスク36があり、このマスク36には多数の微小な開口部38が形成されている。マスク36の下方には、4個の電磁石42を内蔵したマスク吸着体40がある。マスク吸着体40は、XYZ方向に移動可能であり、かつ、θ回転可能である。電磁石42を励磁してマスク36をマスク吸着体40に吸着した状態でマスク36と基板30を位置合わせし、その後、電磁石42を非励磁にして、永久磁石34でマスク36を基板表面に吸着する。
Claim (excerpt):
多数の貫通孔が形成されている薄板状のマスクを、成膜すべき基板に対して位置合わせしてから、このマスクを基板の表面に取り付けるようにした、真空成膜装置のマスク着脱装置において、次の(ア)〜(カ)を備えるマスク着脱装置。(ア)磁性材料で形成されたマスク。(イ)電磁石を内蔵していて、マスクを一時的に磁気吸着するマスク吸着体。(ウ)非磁性材料で形成された基板の背面側に配置されて、磁気吸引力でマスクを基板表面に保持できる背面磁石。(エ)マスク上のアライメントマークと基板上のアライメントマークとを撮像して両者の位置合わせ状況を観察できる撮像装置。(オ)基板に対してマスク吸着体を基板表面に平行な平面内で相対的に移動させることのできる位置合わせ用の駆動機構。(カ)基板に対してマスク吸着体を基板表面に垂直な方向に移動させることのできる垂直駆動機構。
IPC (4):
C23C 14/04 ,  C23C 14/50 ,  G09F 9/00 338 ,  H05B 33/10
FI (4):
C23C 14/04 A ,  C23C 14/50 F ,  G09F 9/00 338 ,  H05B 33/10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page