真空蒸着装置およびその真空蒸着装置を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：木下實三 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996018794
Publication number (International publication number)：1997209127
Application date： Feb. 05, 1996
Publication date： Aug. 12, 1997
Summary：

【要約】【課題】単純な構造で低コストに形成できかつ基板の被蒸着面および被蒸着面上の蒸着層の表面を脱ガスを含む雰囲気から確実に遮断できる真空蒸着装置およびこの真空蒸着装置による高品質な有機EL素子の製造方法を提供すること。【解決手段】真空槽11内でマスク23を交換するマスク装着機構20に基板31の被蒸着面31A側を被覆するシールド32を支持させ、蒸着材料60の加熱の初期に、シールド32上面の真空パッキン33が基板31に密着するようにシールド32を基板31に装着し、基板31とシールド32との間に脱ガス等の不純物が侵入するのを防止する。その後、シールド32を外して基板31に所定のマスク23を装着して蒸着を行い、有機EL素子等を製造する。

Claim (excerpt)：

真空槽内に設けられた蒸着源で蒸着材料を加熱して基板に蒸着させる真空蒸着装置であって、前記基板の被蒸着面側を前記真空槽内の雰囲気から遮断するシールドと、このシールドを脱着する脱着手段とを有することを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (4)：

C23C 14/24 , H01L 21/203 , H01L 21/285 , H01L 21/205

FI (4)：

C23C 14/24 G , H01L 21/203 Z , H01L 21/285 C , H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

光磁気記録媒体の製作方法及び製作装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-189893 Applicant：日本ビクター株式会社
成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-351724 Applicant：住友電気工業株式会社
高純度ガス精製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-193599 Applicant：株式会社東芝

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