Pat
J-GLOBAL ID:200903040662359910

研磨用キャリア及び研磨方法並びに情報記録媒体用基板の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 阿仁屋 節雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999093944
Publication number (International publication number):2000288922
Application date: Mar. 31, 1999
Publication date: Oct. 17, 2000
Summary:
【要約】【課題】 ポリッシング加工等において被研磨体の端面(外周側面)に傷等を発生させるおそれのない研磨用キャリア及び該研磨用キャリアを用いた研磨方法並びに該研磨方法を用いた情報記録媒体用基板の製造方法を提供する。【解決手段】 被研磨体たる磁気記録媒体用ガラス基板4を保持する被研磨体保持孔2a〜2gを有する研磨用キャリア1において、少なくとも前記被研磨体と接触する前記保持孔の内周部分を、硬度100以下(Asker-C)の材料できる構成した。
Claim (excerpt):
被研磨体を保持する保持孔を有する研磨用キャリアにおいて、少なくとも前記被研磨体と接触する前記保持孔の内周部分が、硬度100以下(Asker-C)の材料からなることを特徴とする研磨用キャリア。
IPC (4):
B24B 37/04 ,  B24B 7/24 ,  G11B 5/84 ,  G11B 7/26
FI (4):
B24B 37/04 C ,  B24B 7/24 A ,  G11B 5/84 A ,  G11B 7/26
F-Term (20):
3C043CC07 ,  3C043CC11 ,  3C043CC13 ,  3C043DD05 ,  3C043EE04 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA18 ,  3C058AB08 ,  3C058CB02 ,  3C058CB10 ,  3C058DA06 ,  3C058DA18 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112KK01 ,  5D121AA02 ,  5D121GG22 ,  5D121JJ02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page