イオンビーム照射装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山本惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001158772
Publication number (International publication number)：2002352761
Application date： May. 28, 2001
Publication date： Dec. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】ビームラインや基板処理室の真空度悪化を惹き起こすことなく、低エネルギーの電子を大量に発生させてそれを中和に利用して、イオンビーム照射に伴う基板表面の帯電を小さく抑えることができるようにする。【解決手段】このイオンビーム照射装置は、基板4を保持するホルダ6と同電位のものであって他から加熱されて熱電子12を放出する面状の陰極10と、それを加熱する加熱源14と、陰極10から放出された熱電子12を引き出す引出し電極26と、それに6V以下の引出し電圧VE を印加する引出し電源28とを備えている。更に、引き出された熱電子12を曲げてイオンビーム2および基板4側へ向かわせる磁界発生器34と、所定範囲の軌道を描く熱電子12を選択的に通過させる電子放出口32とを備えている。

Claim (excerpt)：

ホルダに保持された基板にイオンビームを照射して処理を施すイオンビーム照射装置において、前記ホルダよりも上流側であってイオンビームの経路の側方に配置されていて、他から加熱されて熱電子をイオンビームの上流側に向けて放出する面状の陰極であって前記ホルダと同電位のものと、この陰極をその背後から加熱して熱電子を放出させる加熱源と、前記陰極の前方に設けられていて当該陰極から放出された熱電子をイオンビームの上流側に向けて引き出す多孔の引出し電極と、この引出し電極と前記陰極との間に前者を正極側にして6V以下の引出し電圧を印加する引出し電源と、前記引出し電極から引き出された熱電子をイオンビームの経路側に曲げてイオンビームおよび基板側へ向かわせる磁界を発生させる磁界発生器と、この磁界発生器によって曲げられた熱電子の内の所定範囲の軌道を描くものを選択的に通過させる電子放出口とを備えることを特徴とするイオンビーム照射装置。

IPC (6)：

H01J 37/20 , C23C 14/48 , G21K 5/00 , G21K 5/04 , H01J 37/317 , H01L 21/265

FI (7)：

H01J 37/20 H , C23C 14/48 C , G21K 5/00 A , G21K 5/04 A , G21K 5/04 F , H01J 37/317 Z , H01L 21/265 N

F-Term (8)：

4K029AA24 , 4K029BD01 , 4K029DE00 , 5C001AA08 , 5C001BB07 , 5C001CC07 , 5C034CC13 , 5C034CD10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特表平5-501028
特開平4-032568
エレクトロンシャワー装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-221129 Applicant：九州日本電気株式会社

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