フォトリソグラフィ用UV光透過フッ化物結晶

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：柳田征史 , 佐久間剛
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003529210
Publication number (International publication number)：2005503313
Application date： Sep. 13, 2002
Publication date： Feb. 03, 2005
Summary：

フッ化カルシウム-フッ化ストロンチウム混晶を利用する200nmより短波長のUV光リソグラフィ方法が提供される。本方法は、<200nm光を生じさせるための200nmより短波長の光源を提供する工程、200nmより短波長におけるフッ化物混晶の空間分散を最小化する総合等方性分極率を生じさせる等のために、相異なる光学分極率を有するカルシウム陽イオンとストロンチウム陽イオンの組合せを含むフッ化物混晶からなる、複数の立方晶フッ化カルシウム-フッ化ストロンチウム混晶光学素子を提供する工程、<200nm光に立方晶フッ化物混晶光学素子を透過させる工程、<200nm光によりリソグラフィパターンを形成する工程、リソグラフィパターンを縮小する工程、及び、焼き付けられたリソグラフィパターンを形成するため、フッ化物混晶光学素子を用いて、UV感光性リソグラフィ焼付け媒体上にリソグラフィパターンを投影する工程を含む。フッ化物混晶、フッ化物混晶の光学素子ブランク及び光リソグラフィ素子の作成方法も提供される。

Claim (excerpt)：

最小化された空間分散量で<200nm光を透過させるための光学品質の金属フッ化物混晶において、前記金属フッ化物混晶が不純物準位を上回るカルシウムカチオンと、それぞれ不純物準位を上回るバリウムカチオンとストロンチウムカチオンの一方または両方を含んでいることを特徴とする金属フッ化物混晶。

IPC (3)：

C30B29/12 , C01F11/22 , C30B33/02

FI (3)：

C30B29/12 , C01F11/22 , C30B33/02

F-Term (14)：

4G076AA05 , 4G076AA18 , 4G076CA32 , 4G076CA36 , 4G077AA02 , 4G077AB01 , 4G077AB02 , 4G077BE02 , 4G077CD02 , 4G077EC07 , 4G077FE13 , 4G077FE18 , 4G077HA01 , 4G077MB04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

結晶成長用の種結晶及びフッ化物結晶
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-176874 Applicant：キヤノン株式会社, 株式会社オプトロン
コルキライト型フッ化物混晶からなる真空紫外領域用光学部材および光学部材用コーティング材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-168153 Applicant：福田承生, 株式会社オプトロン

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