レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：八田幹雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996249037
Publication number (International publication number)：1998048828
Application date： Aug. 30, 1996
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】レジスト組成物を提供する。【解決手段】レジスト組成物は、その側鎖の特定部分にt-ブチル基またはテトラヒドロピラニル基が二つずつ形成されたベース樹脂を含んむことによって露光前・後の溶解度の差が大きい上に熱的特性にも優れている。これによって、本発明のレジスト組成物は、高集積の半導体チップを製造するためのリソグラフィー工程に好適である。

Claim (excerpt)：

下記式(I)【化1】(ここで、R1 はt-ブチル基またはテトラヒドロピラニル基であり、kは20ないし500である。)で表示され重量平均分子量が5000ないし200000であるベース樹脂および該ベース樹脂に対して1ないし20重量%の光反応性酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-089917 Applicant：三菱電機株式会社
感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-246541 Applicant：日本合成ゴム株式会社
化学増幅形レジスト用のベース樹脂およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-184850 Applicant：三星電子株式会社

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