Pat
J-GLOBAL ID:200903041695798656
照明装置、投影露光装置並びにそれを用いたデバイス製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山下 穣平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000235626
Publication number (International publication number):2002050564
Application date: Aug. 03, 2000
Publication date: Feb. 15, 2002
Summary:
【要約】【課題】 照明光の利用効率を低下させることなく、ウエハ上における光束のテレセントリック性を調整することができる照明装置を提供する。【解決手段】 パイプ6を光軸と直交する方向に移動させることで、その光出射面6bでの光強度分布を変位させることにより、結像系8を介して多光束発生手段9の光入射面9a上での光強度分布の重心位置を変位させる。これによって、ウエハ上での光束の軸上結像光束のテレセントリック性を調整できる。
Claim (excerpt):
第1の面での光強度分布の均一化を図るための第1のオプティカルインテグレータと、第2の面での光強度分布の均一化を図るための第2のオプティカルインテグレータと、前記第2のオプティカルインテグレータの入射面を前記第1の面と共役な位置に配置する結像光学系とを有し、前記第2の面又はそれと共役な位置に配置された被照明面を照明する照明装置において、前記第1のオプティカルインテグレータを駆動することによって、前記第2のオプティカルインテグレータの入射面上の光強度分布を変化させることを特徴とする照明装置。
IPC (3):
H01L 21/027
, G02B 19/00
, G03F 7/20 521
FI (3):
G02B 19/00
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
F-Term (6):
2H052BA02
, 2H052BA09
, 2H052BA12
, 5F046BA03
, 5F046CB13
, 5F046DA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-303297
Applicant:キヤノン株式会社
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照明光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-355200
Applicant:株式会社ニコン
Cited by examiner (2)
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投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-303297
Applicant:キヤノン株式会社
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照明光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-355200
Applicant:株式会社ニコン
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